판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9244824
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TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8은 고급 석판화를 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 연구원과 업계 전문가들에게 고급 반도체 웨이퍼 (wafer) 기술에서 전자 회로 (electronic circuit) 를 개발하기 위한 고해상도, 재현가능, 견고한 패턴화 기능을 제공합니다. 이 장치는 자가 정렬 (self-aligning) 다중 계층 저항 (multi-layer resist) 기술을 기반으로 패턴의 형상과 크기를 완전히 제어하여 나노 입자의 고해상도 패턴화를 지원합니다. 저항기는 심자외선 (DUV) 광원과 최적 패턴 (patterning) 성능에 맞게 구성된 저항 제제로 구성됩니다. 깊은 UV 광원 (Deep UV Light Source) 은 광범위한 노출을 통해 저항층을 매우 정확하고 효율적으로 패턴화할 수 있습니다. 저항 제형은 패턴 치수와 석판 특성을 정확하게 제어하도록 설계되어, 뛰어난 패턴 충실도 (pattern fidelity) 와 반복 (repeatability) 을 가능하게합니다. 이러한 기능은 높은 생산성과 균일성을 제공하는 툴로, 고성능 메모리 (HPM), 이미지 센서 (Image Sensor) 와 같은 중요한 애플리케이션 영역에 적합합니다. 에셋은 혼합 레이어 리소그래피 (mixed layer lithography) 를 지원하며, 이를 통해 디자이너들은 양수 및 음수 저항의 여러 레이어를 결합하여 패턴 치수 및 기타 중요한 매개변수를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 또한, 이 모델은 반복 가능하고 정확한 결과를 위해 사전 프로그래밍된 프로세스 매개변수를 갖춘 고급 자동 초점 (auto-focus) 및 자동 노출 기능을 제공합니다. 텔 액트 8 (TEL ACT 8) 장비에는 직관적인 인터페이스와 사용자에게 친숙한 컨트롤이 장착되어 있어 모든 프로세스 매개변수에 대한 편리하고 정확한 액세스를 제공합니다. 또한 포괄적인 문서와 광범위한 애플리케이션 지원이 제공됩니다. 이 시스템은 다양한 에칭 및 증착 프로세스와 호환되며 다중 프로젝트 웨이퍼 (multi-project wafer) 기능도 지원합니다. TOKYO ELECTRON ACT 8은 다재다능하고 효과적인 포토리스트 유닛으로, 고급 리소그래피에 대한 뛰어난 성능과 반복성을 제공합니다. 고급 자동 초점 (auto-focus) 및 노출 (exposure) 기능은 물론 까다로운 어플리케이션에서도 안정적인 프로세스 충실도를 통해 뛰어난 패턴 제어를 제공합니다. 종합적인 지원 및 사용자 친화적 인터페이스 (User Friendly Interface) 는 연구 실험실 및 운영 환경에 이상적인 선택입니다.
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