판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9235266
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ID: 9235266
웨이퍼 크기: 8"
System, 8"
Wafer flow: Left to right
Wafer type: Notch / Flat
Cassette block (CSB): Open type
Process block (PRB): 1 Block
Interface block (IFB)
CANON FPA-3000 i5 Exposure system
Chemical box:
Solvent: (2) Buffer tanks and degas module
HMDS: Buffer tank and canister tank
Solution: (2) Buffer tanks and (2) Degas modules
Drain: COT Drain poly tank
With fire extinguisher system
Temperature and humidity 1: COSAM SPA-Series
No temperature and humidity 2
Temperature control unit (TCU) 1: INR Series
AC Power box
No back-up module in AC power box
(7) Parts boxes
Missing part in AC box
Cassette block (CSB):
No ULPA fan unit
Display panel
Alarm tower
Loader
No carrier reader sensor
CRA:
X, Y, TH, Z Motor set
X, Y, TH, Z Drive set
Tweezer
Mapping sensor
Wafer check sensor
No AGV system
MSE 343B DC Power box
CSB Chemical area:
Resist pump: (8) T-F200 Series RRC Pumps
Resist bottle: Gallon bottle and quart bottle
Resist filter:
(4) Impact type
(4) Housing type
(8) LE Tanks: 200cc
Process block (PRB) 2:
FAN Unit
TH Drive
PRA:
X1, 2, 3, Z Motor and drive
Pincette and wafer block
Wafer sensor
Coater (COT):
(4) Dispense nozzles
Nozzle arm 1 and 2
Chuck
Back rinse nozzle
No BARC coater (COT)
TARC Coater (TCT):
(2) Dispense nozzles
Nozzle arm 1 and 2
Chuck
Back rinse nozzle
CUP Set
Developer (DEV):
Dispense nozzle: H Nozzle
Nozzle arm 1 and 2
Chuck
Back rinse nozzle
CUP Set
Process block (PRB) 2: Oven
ADH
LHP
No HHP
No HCH
CPL
No PHP
No PCH
CHP
No TCP
TRS
CWH
IFB (Interface block):
FAN Unit
EIS Type: CANON
IRA:
X, TH, Y, Z Motor and drive
Tweezer and wafer block
Wafer sensor
WEE:
X Motor and drive
Chuck
Exposure type: DUV-Line
Exposure sensor: 254 UV.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8은 전자 인쇄 회로 생산에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 소규모에서 대규모의 다양한 디바이스 (예: 반복 가능하고 강력한 구성 프로세스) 를 구성할 수 있습니다. TEL ACT 8은 포토 esist 프로세서, 마스크 정렬기 및 결함 검사 장치로 구성됩니다. 포토레시스트 프로세서 (photoresist processor) 를 사용하면 회로 기판의 표면에 빛을 적용할 수 있으며, 이는 에칭 프로세스의 선택성과 속도를 지원합니다. 마스크 정렬기 (Mask Aligner) 를 사용하면 Photoresist 재료가 에칭을 위해 올바른 위치에 적용되도록 마스크를 회로 기판에 정확하게 정렬할 수 있습니다. 마지막으로, 결함 검사 기계 (defect inspection machine) 는 결함 및 결함을 포토레지스트 물질을 모니터링하여 최종 결과가 최고 품질을 갖도록 합니다. TOKYO ELECTRON ACT 8은 뛰어난 정밀도와 정확도를 제공하도록 설계되었습니다. 이 도구는 0.5 미크론 (미크론) 이하의 기능을 확인할 수 있으므로 높은 수준의 정확도를 지원합니다. 이 정밀도를 통해 매우 작고 복잡한 회로가 정확하게 생성 될 수 있습니다. 이 자산은 또한 빠른 스위칭 시간 (switching time) 과 강력한 프로세스 (repeatable process) 를 통해 대용량 패널을 한 단계로 생산할 수 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8은 프로토 타입 및 생산 인쇄 회로 생산을위한 안정적이고 일관된 솔루션입니다. 이 모델은 다양한 포토레시스트 (photoresist) 재료와 호환되며, 사용자는 최상의 결과를 얻기 위해 프로세스를 사용자 정의할 수 있습니다. 또한 다양한 기판 (substrate) 과 보드 (board) 유형을 처리하여 광범위한 응용 프로그램에 사용할 수 있습니다. 전체적으로 ACT 8 (ACT 8) 은 고품질의 인쇄 회로를 생산할 수 있도록 설계된 신뢰할 수 있고 포괄적 인 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 이 시스템은 매우 정확하고 반복 가능하며, 복잡한 회로 설계에 탁월한 정확성과 정확성을 제공하며, 다양한 재료 (material) 와 기판 (substrate) 과 호환되어 다양한 응용 프로그램 범용성을 제공합니다.
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