판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9235266

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ID: 9235266
웨이퍼 크기: 8"
System, 8" Wafer flow: Left to right Wafer type: Notch / Flat Cassette block (CSB): Open type Process block (PRB): 1 Block Interface block (IFB) CANON FPA-3000 i5 Exposure system Chemical box: Solvent: (2) Buffer tanks and degas module HMDS: Buffer tank and canister tank Solution: (2) Buffer tanks and (2) Degas modules Drain: COT Drain poly tank With fire extinguisher system Temperature and humidity 1: COSAM SPA-Series No temperature and humidity 2 Temperature control unit (TCU) 1: INR Series AC Power box No back-up module in AC power box (7) Parts boxes Missing part in AC box Cassette block (CSB): No ULPA fan unit Display panel Alarm tower Loader No carrier reader sensor CRA: X, Y, TH, Z Motor set X, Y, TH, Z Drive set Tweezer Mapping sensor Wafer check sensor No AGV system MSE 343B DC Power box CSB Chemical area: Resist pump: (8) T-F200 Series RRC Pumps Resist bottle: Gallon bottle and quart bottle Resist filter: (4) Impact type (4) Housing type (8) LE Tanks: 200cc Process block (PRB) 2: FAN Unit TH Drive PRA: X1, 2, 3, Z Motor and drive Pincette and wafer block Wafer sensor Coater (COT): (4) Dispense nozzles Nozzle arm 1 and 2 Chuck Back rinse nozzle No BARC coater (COT) TARC Coater (TCT): (2) Dispense nozzles Nozzle arm 1 and 2 Chuck Back rinse nozzle CUP Set Developer (DEV): Dispense nozzle: H Nozzle Nozzle arm 1 and 2 Chuck Back rinse nozzle CUP Set Process block (PRB) 2: Oven ADH LHP No HHP No HCH CPL No PHP No PCH CHP No TCP TRS CWH IFB (Interface block): FAN Unit EIS Type: CANON IRA: X, TH, Y, Z Motor and drive Tweezer and wafer block Wafer sensor WEE: X Motor and drive Chuck Exposure type: DUV-Line Exposure sensor: 254 UV.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8은 전자 인쇄 회로 생산에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 소규모에서 대규모의 다양한 디바이스 (예: 반복 가능하고 강력한 구성 프로세스) 를 구성할 수 있습니다. TEL ACT 8은 포토 esist 프로세서, 마스크 정렬기 및 결함 검사 장치로 구성됩니다. 포토레시스트 프로세서 (photoresist processor) 를 사용하면 회로 기판의 표면에 빛을 적용할 수 있으며, 이는 에칭 프로세스의 선택성과 속도를 지원합니다. 마스크 정렬기 (Mask Aligner) 를 사용하면 Photoresist 재료가 에칭을 위해 올바른 위치에 적용되도록 마스크를 회로 기판에 정확하게 정렬할 수 있습니다. 마지막으로, 결함 검사 기계 (defect inspection machine) 는 결함 및 결함을 포토레지스트 물질을 모니터링하여 최종 결과가 최고 품질을 갖도록 합니다. TOKYO ELECTRON ACT 8은 뛰어난 정밀도와 정확도를 제공하도록 설계되었습니다. 이 도구는 0.5 미크론 (미크론) 이하의 기능을 확인할 수 있으므로 높은 수준의 정확도를 지원합니다. 이 정밀도를 통해 매우 작고 복잡한 회로가 정확하게 생성 될 수 있습니다. 이 자산은 또한 빠른 스위칭 시간 (switching time) 과 강력한 프로세스 (repeatable process) 를 통해 대용량 패널을 한 단계로 생산할 수 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8은 프로토 타입 및 생산 인쇄 회로 생산을위한 안정적이고 일관된 솔루션입니다. 이 모델은 다양한 포토레시스트 (photoresist) 재료와 호환되며, 사용자는 최상의 결과를 얻기 위해 프로세스를 사용자 정의할 수 있습니다. 또한 다양한 기판 (substrate) 과 보드 (board) 유형을 처리하여 광범위한 응용 프로그램에 사용할 수 있습니다. 전체적으로 ACT 8 (ACT 8) 은 고품질의 인쇄 회로를 생산할 수 있도록 설계된 신뢰할 수 있고 포괄적 인 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 이 시스템은 매우 정확하고 반복 가능하며, 복잡한 회로 설계에 탁월한 정확성과 정확성을 제공하며, 다양한 재료 (material) 와 기판 (substrate) 과 호환되어 다양한 응용 프로그램 범용성을 제공합니다.
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