판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9145487

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8은 집적 회로 생산을 돕기 위해 설계된 광전자 (화학 활성) 장비입니다. 이 "시스템 '은 감광성 화학 물질 즉 감광제 를 이용 하여 반도체 기판 의 표면 에 정밀 한" 이미지' 를 만든다. 광전자는 빛에 반응하는 화학 물질을 함유하는 감광 물질의 한 유형입니다. TEL ACT 8 장치에는 포토 esist 코팅 모듈, 정렬 모듈 및 UV 노출 광원이 포함됩니다. 포토리스 스트-코팅 모듈은 웨이퍼 (wafer) 표면에 포토리스 스트 (photoresist) 를 균등하게 퍼뜨려 후속 노출 된 영상 프로세스에 적합한 레이어를 생성하는 데 사용된다. 정렬 모듈은 현미경 단계에 장착되며, 여러 웨이퍼 정렬 메커니즘을 포함합니다. 정렬 메커니즘은 적절한 이미징을 위해 웨이퍼를 특정 위치로 안내합니다. UV 노출 광원도 현미경 단계에 장착됩니다. 자외선 (UV light) 을 사용하여 감광제를 노출시키고, 화학을 활성화시키고, 아래 기질로 전달될 패턴을 만듭니다. 이 광원은 5nm 정도의 크기 (feature size) 로 고해상도 이미지를 만들 수 있습니다. 포토레시스트가 노출되면, 처리 모듈을 사용하여 이미지를 개발한다. 이 모듈은 노출되지 않은 포토 esist를 반출하여 아래의 패턴을 표시합니다. 이미징 프로세스가 완료되면, 회로를 완료하기 위해 추가 처리 단계가 수행됩니다. 여기에는 베이킹, 에칭 및 증착이 포함될 수 있습니다. TOKYO ELECTRON ACT 8 기계는 안정성이 높으며, 처리 속도는 시간당 최대 180 개의 웨이퍼입니다. 또한, 5nm 피쳐 크기까지 패턴을 생성 할 수 있습니다. 이 도구는 반도체 제조에 널리 사용되어 수율이 높은 고성능 회로를 생산합니다.