판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9127709

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8은 반도체 산업에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 광저항 물질 은 빛 에 민감 한 물질 로서, "액체 '나" 필름' 의 형태 로 기판 에 적용 된다. 자외선에 노출 될 때, 기질에 균일 한 에치 패턴을 만들 수있는 폴리머 (polymer) 를 형성하고, 이어서 사진 리소그래피, 마스킹, 박막 증착 등 다양한 응용에 사용될 수있다. TEL ACT 8은 신뢰할 수 있고 반복 가능한 결과를 제공하는 고급 포토 esist 시스템입니다. 이 장치는 고해상도 (high resolution) 기능으로 유명하며 기판 전체에 걸쳐 정확하고 일관된 패턴을 제공합니다. 광저항기 (photoresist machine) 는 고해상도 (High Resolution) 와 고화면비 (High Aspect Ratios) 를 포함한 다양한 응용 분야에 사용될 수 있으며, 반도체 장치에서 작업할 때 중요 할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON ACT 8 도구는 최고의 해상도를 제공하도록 설계된 프로세스 제어를 제공합니다. 포토 마스크 (photomask) 는 노출 된 영역을 지정하는 데 사용된 다음 원하는 위치에서 포토 저항을 받습니다. ACT 8의 도움으로, Photo Resist 노출은 균일하지 않은 노출에서도 정확하고 균일합니다. 에셋에는 포토레시스트의 정렬을 돕기 위한 스캐너 (scanner) 도 내장되어 있습니다. ACT 8 포토레시스트 (photoresist) 모델은 많은 반도체 회사에서 신뢰할 수 있는데, 이는 반복 가능한 결과와 신뢰성을 갖춘 고품질 제품을 제공할 수 있기 때문입니다. 그것 은 "반도체 '생산 을 위한 작고 복잡 한 특징 을 생산 하는 데 효과적 이고 믿을 만한 장비 로 증명 되었다. 또한, 이 시스템은 환경 보호를 고려하여 설계되었으며, 저전력 부품으로 제작되었습니다. TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 장치는 고해상도 해상도와 안정적인 결과를 요구하는 반도체 기업 및 엔지니어에게 또 다른 유용한 도구입니다. 더 큰 정확성과 반복성 (repeatability) 을 제공하므로 반도체 장치에서 작고 섬세한 기능을 만들 때 탁월한 선택이 가능합니다.