판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #293610442
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ID: 293610442
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2004
(2) Coater / (2) Developer system, 8"
Chiller
Chemical box
Power box
Temperature and humidity controller
Signal tower: (3) Lights
Open cassette carrier
Bake board type / Cooling board type: Proximity, Spacer
Solvent supply method: Canister automatic switching, 10 L
DEV Cup: PP+POM
Modules:
I/F
ADH
(3) TRS
(3) CPL
(6) LHP
CWH
WEE
(4) STG
DEV Nozzle:
E2 Nozzle
Rinse
Back rinse
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8은 세계 최고의 반도체 제조 장비 제조업체 중 하나 인 TEL이 개발 한 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 5 킬로미터 (m) 의 해상도로 웨이퍼에 회로 및 기타 패턴을 만들 수 있습니다. 단일 노출로 여러 레이어를 패턴화 할 수있는 다중 패턴 포토레스 장치 (multi-patterning photoresist unit) 입니다. TEL ACT 8은 12 "~ 24" 의 대형 웨이퍼 용량을 가지며, 많은 양의 기판을 동시에 처리 할 수 있습니다. 고급 광학 기계는 정확하고 균일 한 패턴화를 허용합니다. 고속 스캐너는 기판을 이전 모델보다 빠르고 정확하게 이동할 수 있습니다. 더 나은 에지 배치 정확도를 위해 정확한 플라즈마 투여 기술 (plasma dosing technology) 을 특징으로하며 정확한 패턴화를 위해 고속 호 프로그래밍을 수용 할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON ACT 8 도구는 고급 수치 조리개 자산 덕분에 뛰어난 웨이퍼 정렬 기능도 제공합니다. 또한, 웨이퍼는 내장 광학 현미경을 통해 더 면밀히 검사 할 수 있으며, 이 현미경 (optical microscopy) 은 결함을 찾거나 기판 표면을 관찰하는 데 사용될 수 있습니다. 이 모델은 또한 낮은 입자 오염 및 단단한 입자 제어를 제공합니다. 자가 스캐닝 (auto-scanning) 입자 탐지기 (detector) 를 장착하여 보다 깨끗한 환경을 보장하고 장비에 존재하는 입자의 크기와 양을 모니터링합니다. 입자 탐지기 와 함께, "시스템 '은 또한 수분 과 청정실 공기 로 인한 오염량 을 줄일 수 있다. 또한, 이 장치에는 온도 조절 장치 (Temperature Control Machine) 가 장착되어 제품 프로세싱의 안정적인 환경을 보장하고 제품 노출 중 열 드리프트 (Thermal Drift) 를 줄일 수 있습니다. 이 기능은 또한 필름 수축을 최소화하고 생산 수율을 증가시킵니다. 도쿄 일렉트로닉 액트 8 (TOKYO ELECTRON ACT 8) 도구는 반도체 업계에서 가장 발전된 포토 esist 프로세스에 이상적인 솔루션입니다. 뛰어난 해상도 기능 및 필름 두께 (film thickness) 에 대한 엄격한 제어를 통해 가장 안정적이고 일관된 포토리스 (photoresist) 시스템 중 하나입니다. 고급 기능 및 기능을 갖춘 ACT 8 (ACT 8) 자산은 통합 칩 생산에 있어 모든 포토레시스트 (photoresist) 요구에 적합한 선택입니다.
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