판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9290661

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 (TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12) 는 TEL이 개발하고 전 세계 다양한 유통 업체가 판매하는 포토리스 장치 로서 반도체 처리를 위해 주로 설계된 비용 효율적이지만 고급 에칭 시스템입니다. 이 단위는 포토 esist의 증착 (deposition) 을 제어함으로써 기판에 복잡한 패턴을 정확하게 제작 할 수 있습니다. 광저항 물질 (Photoresist) 은 반도체 성분 및 기타 유사한 물질에 적용되어 추가 층을 에칭 (etching) 하거나 퇴적시켜 구조화하는 빛 민감성 물질 유형이다. TEL ACT 12 기계는 사용자 친화적으로 설계되었으며, 접촉 리소그래피, 스핀 코팅, 마스크 정렬, 사후 처리 단계 등 다양한 프로세스를 수용할 수있는 광범위한 프로세스 기능을 제공합니다. 이 도구에는 정확한 프로세스 제어를 위한 몇 가지 강력한 하드웨어 기능이 포함되어 있습니다. 여기에는 photoresist 공급 자산, 웨이퍼 처리 모델, 패턴 생성기, 레이저 정렬 및 자동 초점 메커니즘이 포함됩니다. 전체 장비는 이동 정확도가 높고 정밀도가 높은 넓은 작업 영역을 갖추고 있습니다. 광전자 공급 시스템 (photoresist supply system) 은 단위의 핵심이며, 기질에서 광전자의 일관되고 균일 한 코팅을 허용한다. 또한 사용자의 요구에 따라 포토레시스트 (photoresist) 레이어의 두께를 조정할 수도 있습니다. 웨이퍼 처리 머신 (wafer handling machine) 은 기판의 정확한 이동 및 위치를 제공하는 반면, 패턴 생성기 (pattern generator) 를 사용하면 에칭할 패턴을 정의할 수 있습니다. 레이저 정렬 기능 (laser alignment feature) 은 패턴을 정확하게 배치하고 자동 초점 메커니즘은 전체 웨이퍼가 동일한 수준의 UV 광 노출 (UV light exposure) 에 노출되도록 합니다. 또한, TOKYO ELECTRON ACT12 도구에는 프로세스 시퀀스의 간편한 관리 및 프로그래밍이 가능한 직관적 인 소프트웨어 제어 프로그램이 포함되어 있습니다. 따라서 자산은 자동화된 제조 작업에 이상적입니다. 본 소프트웨어는 프로세스 요구 사항에 따라 사용자 정의할 수 있는 내장형 프로세스 매개변수 라이브러리 (Library of process parameters) 를 갖추고 있습니다. 또한, 프로세스의 오류 또는 문제에 대해 사용자에게 경고하는 안전 (Safety) 기능도 포함되어 있습니다. 전반적으로, TEL ACT12 모델은 고급 프로세스 기능과 사용 편의성을 갖춘 비용 효율적인 포토리스 (photoresist) 장비를 찾는 사람에게 탁월한 선택입니다. 이 시스템의 강력한 하드웨어 기능은 일관되고 정확한 프로세스 제어를 보장하는 반면, 직관적인 소프트웨어 제어 프로그램 (Software Control Program) 은 원활한 운영 및 유지 관리를 지원합니다.