판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9271250

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12는 반도체 제작 산업의 에칭, 증착 및 청소 프로세스에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 이것 은 표면 에 있는 "박막 '층 의" 에칭' 을 정확 히 제어 하는 고급 기법 이다. TEL ACT 12를 사용하면 고해상도, 고종횡비 및 최소 포토 esist 잔기를 사용하여 정확한 패턴, 플롯 및 에치 마이크로 피처가 가능합니다. TOKYO ELECTRON ACT12는 도구 프레임, 운영 콘솔, 특수 조리개 제어 장치 및 Laser Irradiation System으로 구성됩니다. 처음 두 컴포넌트 (component) 를 통해 사용자는 장치를 제어하고 그에 따라 매개변수를 조정할 수 있습니다. SACU (Specialized Aperture Control Unit) 는 미세 구조의 최고 해상도를 보장합니다. 그것 은 단단 히 통합 된 "레이저 '광선," 셔터' 및 광학 을 사용 함 으로써 그렇게 한다. "레이저 '광선 크기," 빔' 모양, 초점 크기 와 위치 를 조정 함 으로써 기계 는 가장 작은 "피처 '크기 로 필요 한" 패턴' 을 정확 하게 생성 할 수 있다. 레이저 자극 도구 (Laser Irradiation Tool) 는 높은 종횡비 미세 피어처를 효율적으로 및 최소 광저항 잔기를 이용하도록 설계되었습니다. 이것은 컴퓨터 제어 레이저 패턴 생성기와 외부 변조 레이저 광학 자산을 결합하여 수행됩니다. TEL ACT12는 다른 프로세스를 실행하도록 설계되었습니다. 에칭 프로세스 (etching process) 는 기판의 패턴을 정확하게 식각 (etch) 하는 데 도움이되는 반면, 스틸 필름 (thin film) 을 표면에 배치할 수 있습니다. 모델은 에칭 프로세스 후에 비활성화 프로세스 (기판의 표면을 청소) 를 수행 할 수도 있습니다. TOKYO ELECTRON ACT 12는 매우 다재다능한 포토 esist 장비입니다. 다양한 기판에 호환성이 있는 초미세 (Ultra-Fine) 기능을 생성할 수 있는 반면, 뛰어난 결과를 지속적으로 달성할 수 있습니다. 이러한 기능은 사용자 중심의 간단한 작업과 함께 마이크로패브라이션 (microfabrication) 업계의 에칭 (etching), 증착 (deposition) 및 클리닝 (cleaning) 프로세스에 이상적인 선택이 됩니다.