판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9239543

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12는 반도체 산업에 사용하기 위해 TEL Limited (TOKYO ELECTRON) 가 개발 한 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 반도체 웨이퍼에서 포토레스 코팅을 처리하는 데 정확하고, 균등하고, 반복 가능한 결과를 제공하도록 설계되었습니다. TEL ACT 12 장치는 포토 esist 코팅 전에 웨이퍼에서 오염을 제거하는 자동 클리닝 암으로 설계되었습니다. 그런 다음 "웨이퍼 '를 기계 에 넣어 두께 가 최대 12" 미크론' 인 층 에 정밀 한 양 의 "포토레지스트 '를 적용 시킨다. 광소시스트의 층은 레이저 기반 간섭 단계 (interferometric stage) 를 사용하여 코팅의 정확한 두께 제어 및 균일성을 보장합니다. 자동 클리닝 암 (automated cleaning arm) 은 또한 포스트 베이킹 프로세스 전에 와퍼에서 과도한 포토 esist가 제거되도록 보장합니다. "포우스트 베이킹 '은 감광제" 코우팅' 이 완전 히 치료 되고 가공 할 준비 가 되도록 고온 (섭씨 500 도 까지) 에서 수행 된다. TOKYO ELECTRON ACT12 (TOKYO ELECTRON ACT12) 도구는 처리 중 모델의 온도를 정확하게 제어 및 모니터링 할 수있는 고급 모니터링 자산을 갖추고 있습니다. 이것 은 광저항 층 (photoresist layer) 이 정확 하게 치료 되고, 과정 중 의 온도 가 권장 한계 (recommended limit) 를 초과 하지 않도록 한다. ACT12의 소프트웨어 인터페이스는 사용자 친화적이며 직관적입니다. 장비의 작동을 제어하기 위한 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 뿐만 아니라 다양한 프로그래밍 옵션을 제공합니다. 따라서 필요에 따라 photoresist 레이어를 쉽게 설정하고 조정할 수 있습니다. 이 시스템은 또한 자동 웨이퍼 처리 및 보정을 포함한 고급 자동화 기능을 제공합니다. 이렇게 하면 photoresist의 레이어와 두께를 빠르고 쉽게 조정할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON ACT 12 포토 esist 유닛은 반도체 웨이퍼 처리 및 코팅을위한 강력하고, 정확하며, 신뢰할 수있는 기계입니다. 고급 (advanced) 기능을 통해 사용자는 웨이퍼에 균일 하고 반복 가능한 코팅을 빠르고 쉽게 달성 할 수 있으며, 자동 클리닝 암 (cleaning arm) 은 처리 전에 오염 물질이 남지 않도록 보장합니다. 고급 모니터링 도구 (Advanced Monitoring Tool) 를 사용하면 에셋의 온도가 제어 (Controlled) 방식으로 유지되므로 사용자가 처리 중에 photoresist 레이어를 정확하게 제어할 수 있습니다. 또한 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 통해 사용자는 레이어 및 두께 수준을 쉽게 프로그래밍할 수 있습니다.