판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9114986

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12는 TEL (TOKYO ELECTRON Ltd) 에서 생산 한 포토 esist 장비입니다. MEM (Micro Electronic Device) 제조 프로세스를 위해 설계되어 장치 제조에 필요한 고해상도 패턴화를 생산할 수 있습니다. 이 시스템은 ACT 플랫폼 (ACT platform) 을 기반으로하며, 광범위한 포토레지스트 재료를 패턴화하는 데 전례없는 성능을 제공하며, 빠른 턴어라운드 (turn-around) 시간으로 우수한 리소그래피 결과를 생성합니다. 이 장치에는 장치 제조를 간소화하도록 설계된 다양한 기능이 제공됩니다. 사전 노출 베이킹 및 노출 후 베이킹으로 구성된 2 단계 리소그래피 프로세스는 높은 처리량을 허용합니다. 또한 기존의 드라이 에치 (dry-etch) 시스템의 최대 2 배의 이미징 속도를 가지며 다양한 포토 esist 화학 물질 및 마스크 재료를 지원합니다. TEL ACT 12는 하위 미크론 정밀도로 매우 정확하여 가장 상세한 패턴 노출을 가능하게합니다. 또한 양방향 이미징 기능 (tandem feature) 과 결합하여 양수 (positional) 및 음수 (negative) 포토레지스트 레이어를 단일 프로세스로 전송할 수 있습니다. 이 기계는 마이크로 칩 제조 및 MEM 장치 제조, 생명 공학 및 의료 장치 제조에 이르기까지 다양한 산업을 수용하기에 충분히 유연합니다. 이 도구는 실리콘, 갈륨 비소, 다결정, 유기, 금속 산화물 등 다양한 기질에서 가장 잘 수행되므로 여러 산업에서 적용 할 수있는 다목적 솔루션입니다. 이 자산에는 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 가 있어 탐색과 조작이 간편합니다. '포토리스 (photoresist)' 소재와 기판에 대해 서로 다른 프로세스와 매개변수에 액세스할 수 있는 강력한 레시피 (recipe) 데이터베이스가 있습니다. 이 모델은 높은 수준의 안전 (Safety) 을 염두에 두고 설계되었으며, 신뢰성 있는 연마 수집 장비 (Fume Collection Equipment) 와 시스템의 안전하고 정확한 작동을 보장하는 여러 가지 안전 기능을 갖추고 있습니다. 또한 서비스 또는 유지 보수 (maintenance) 로 인한 다운타임 최소화를 통해 유지 관리가 용이합니다. 결론적으로, TOKYO ELECTRON ACT12는 전례없는 성능과 정확도를 제공하는 마이크로 전자 장치 제작을 위해 설계된 포토레스 장치 (photoresist unit) 입니다. 직관적인 사용자 인터페이스 (User Interface), 조정 가능한 처리 속도 (Adjustable Processing Speed) 및 다양한 안전 기능으로 매우 정확하고 유연하여 안전한 작동을 보장합니다. 또한, 시스템 유지 관리가 용이하며, 서비스 또는 유지 보수 작업으로 인한 다운타임이 최소화됩니다.