판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #293597470

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12는 반도체 생산 장비의 글로벌 공급 업체 인 TEL Limited (TOKYO ELECTRON) 에서 제조 한 포토 esist 장비입니다. 반도체 제조 공정의 핵심 구성 요소이며, 반도체 소자를 정확하게 에칭하는 데 사용됩니다. 텔 액트 12 (TEL ACT 12) 시스템은 다양한 사진 분석 프로세스를 수행 할 수 있으며 다양한 반도체 생산 응용 분야에 사용할 수있는 광범위한 저항재를 지원합니다. TOKYO ELECTRON ACT12 장치는 자동 웨이퍼 정렬 기계와 결합 된 고급 고해상도 이미징 광학 (optic) 을 사용하여 포토 마스크와 웨이퍼를 정확하게 정렬합니다. 이렇게 하면 포토 마스크 (photomask) 에 인쇄된 패턴이 후속 에칭을 위해 웨이퍼 (wafer) 서피스로 정확하게 전송됩니다. 또한 이 도구의 고해상도 광학 (optic) 은 저항의 두께와 에치 (etch) 깊이를 월등히 제어하여 수율 및 장치 성능을 향상시킵니다. 에셋은 여러 하위 시스템으로 구성되며, 각각은 photolithography 프로세스의 특정 단계를 최적화하도록 설계되었습니다. RPS (Resist Processing Model) 는 웨이퍼를 청소하고 굽고 포토 esist를 적용하는 반면, PAS (Photomask Alignment Equipment) 는 포토 마스크를 웨이퍼와 정렬하는 일을 담당합니다. PTS (Photoresist Transfer System) 는 포토 마스크를 웨이퍼에 이미징하고 패턴을 포토 esist로 전송하는 반면 ECS (Exposure Control Unit) 는 적절한 노출 매개변수를 충족시킵니다. 이 기계에는 TEL/TOKYO ELECTRON의 특허를받은 ActiveSite ™ 검사 및 프로세스 모니터링 도구 (ActiveSite ™ Inspection and Process Monitoring Tool) 가 장착되어 있어 반복 가능한 고품질 제품 생산을 위해 실시간 패턴 전송 프로세스에 대한 피드백 및 제어 기능을 제공합니다. 이 자산은 정교한 환경 제어 챔버 (Environmental Control Chamber) 로 둘러싸여 있으며, 모델을 먼지와 다른 오염 물질로부터 자유롭게하여 장기간 유지 보수 (maintenance-free operation) 를 가능하게합니다. 신뢰성이 높고 자동화된 ACT 12 장비는 또한 매우 큰 프로세스 창을 제공합니다. 이를 통해 시스템은 150 ~ 450 mm 크기의 다양한 웨이퍼 (wafer) 및 다양한 레지스트 (resist) 유형을 처리 할 수 있으므로 다양한 반도체 응용 프로그램에 사용할 수 있습니다. 마지막으로, 모듈식 설계와 업그레이드 가능한 아키텍처 (Upgradable architecture) 를 통해 유닛을 쉽게 사용자 정의할 수 있으므로 각 반도체 구성 라인의 고유한 요구 사항을 충족할 수 있습니다.