판매용 중고 TAZMO CSX2132N #9312841
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ID: 9312841
SOG Coater, 6"
Fully automatic formation of films
Cassette to cassette
Two-hand robot
Standard cup
Cool plate
(3) Bake plates
Aligner
Cooling area
Vacuum dry
Low O2 density bake (high temperature).
TAZMO CSX2132N (TAZMO CSX2132N) 은 광 매개 노출 노출을 사용하여 패턴을 선택한 기판 재료에 에치하는 포토 esist 장비입니다. 광학 석판화 기술 (Optical Lithography Technology) 을 활용하여 패턴과 이미지를 정밀도가 높은 기판에 정확하게 부과합니다. 고급 광학 리소그래피 (Optical Lithography) 기술을 통해 시스템은 고유하고 복잡한 디자인을 매우 자세히 인쇄할 수 있습니다. CSX2132N 은 "렌즈 '장치 를 사용 하여 광원 을 원하는 기판 에 초점 을 맞추는데, 이것 은 일반적 으로" 필름' 재료 의 일종 이다. 그런 다음 기계는 기질에 화학 감광 화합물을 적용합니다. 화합물은 빛에 반응하고, 기질의 노출 된 면적의 화학적 조성이 변화하는 반응을 일으킨다. 즉, 그 화합물은 빛에 반응한다. 노출되지 않은 영역은 영향을받지 않습니다. 그런 다음, 노출되지 않은 영역을 사용하여 기판에 패턴을 만들 수 있습니다. TAZMO CSX2132N의 광학 석판화 기술은 뛰어난 해상도를 제공합니다. 일반적으로 초점이 매우 큰 자외선 소스 (ultraviolet source) 를 사용하여 다른 노출을 달성하도록 조정 할 수 있습니다. 기질 을 "도핑 '하여 기질 의 특정 한 부분 을 다르게 처리 할 수 도 있다. 이를 통해 도구는 매우 상세한 설계를 만들 수 있습니다. 또한, CSX2132N 에는 노출, 패턴, 설계 등을 조정하는 데 사용할 수 있는 강력한 컴퓨터 구성 요소가 포함되어 있습니다. 컴퓨터 구성 요소를 사용하면 사용자가 나중에 사용할 수 있도록 복잡한 설계를 프로그래밍하고 저장할 수 있습니다. TAZMO CSX2132N (TAZMO CSX2132N) 의 주요 이점은 강력한 이미지 및 설계 기능으로 복잡한 패턴을 정확하고 일관되게 인쇄할 수 있다는 점입니다. 이를 통해 사용자는 높은 수준의 정확도와 세부 (detail) 로 복잡한 이미지를 생성할 수 있습니다. 게다가, 컴퓨터 구성요소 (Computer Component) 를 사용하면 광범위한 응용 프로그램에 대해 노출과 패턴을 크게 사용자 정의할 수 있습니다.
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