판매용 중고 SVG / RITE TRACK 8800/8836 #9165921

SVG/RITE TRACK 8800/8836은 반도체 기판에 정밀 기능의 패턴화 및 개발에 사용되도록 설계된 자동 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 이 시스템은 photolithography, etching, chemical-mechanical planarization, doping 및 metal deposition과 같은 반도체 제작 프로세스에 사용될 수 있습니다. SVG 8800/8836 장치는 정밀 사진 패턴화를 위해 이중 트랙 머신을 사용하며 개발에 저항합니다. 이 도구의 첫 번째 트랙 (First Track) 은 웨이퍼의 사용자 정의 피쳐를 정확하게 패턴화하도록 설계되었으며, 두 번째 트랙 (second track) 은 저항을 처리 및 개발하는 데 사용됩니다. 이 자산은 열 산화물, WBC 옥시, GaAs, SOI, NiSi, polyimide 및 기타 여러 재료를 포함한 다양한 기능성 재료의 개발 및 패턴을 지원합니다. RITE TRACK 8800/8836 모델에는 패턴화를 위한 고급 레이저 장비와 웨이퍼 처리를 위한 정확한 배치 단계가 포함되어 있습니다. 레이저 시스템은 2 개의 미크론 슬릿 옵틱을 사용하며 개선 된 패턴과 안정성 향상을 위해 빔 정렬 (옵션) 을 갖추고 있습니다. 또한, 이 장치에는 빠른 냉각 및 가열을위한 가변 온도 영역 (Variable Temperature Zone) 과 손쉬운 웨이퍼 탐색을 위한 액정 패널이 있습니다. 전체 기계는 소형, 단일 피스 바디 (single-piece body) 내에 배치되어 개발 과정을 더 용이하게합니다. 이 기능을 사용하면 클리닝 룸 (cleanroom) 바닥에 공구를 쉽게 배치할 수 있고, 다중 프로세스에서 설정 (setup) 및 재구성에 필요한 시간을 줄일 수 있습니다. 또한 고객 사양에 맞는 다양한 옵션 (예: 고급 열 관리 냉각 자산) 을 사용할 수 있습니다. SVG 8800/8836 은 가장 정확하고 정밀한 패턴 (pattern) 을 만드는 데 필수적인 툴로서, 가장 까다로운 반도체 애플리케이션에 사용됩니다. 사용이 간편한 기능 툴을 통해 프로세스를 신속하게 맞춤형으로 구성하고 정확성을 높일 수 있습니다. 이 모델은 정확한 패턴화 (patterning) 와 정밀성 (precision resists) 개발이 필요한 대용량 생산 환경에 적합합니다.