판매용 중고 SVG / ASML 90 Series #9058721

SVG/ASML 90 Series는 반도체 생산 공정에서 정확한 photolithographic 패턴을 만들도록 설계된 photoresist 장비입니다. 이 시스템은 다양한 어플리케이션에 대해 정확하고, 정확도가 높은 솔루션을 제공하기 위해 설계된 여러 기술을 갖추고 있습니다. SVG 90 시리즈의 첫 번째이자 가장 주목할만한 구성 요소는 고급 스테퍼 시스템 (Advanced Stepper Systems) 으로, 정해진 위치에서 포토 마스크를 정확하게 찾고 정확하게 형성하도록 설계되었습니다. 이 장치는 최대 2 천 개의 패턴 레이어를 저장할 수 있으므로 제품 복잡성 (Product Complexity) 에 의해 제시된 과제에 관계없이 정확한 정확성을 보장합니다. 스텝퍼에는 VAI (Vector Alignment Imaging) 및 GIC (Global Illumination Control) 가 장착되어 있어 환경 또는 제품의 변화를 고려하여 광학 설정을 신속하게 조정할 수 있습니다. 또한 ASML 90 시리즈는 최신 포토 esist 처리 기술을 제공합니다. 이 기계는 MRTC (multi-layer resist coating) 기술을 사용하여 photomasks에서 생성 된 photoresist 패턴의 정확성을 크게 향상시킵니다. 이는 패턴 (pattern) 의 정확성을 철저히 검사하는 데 필요한 시간을 크게 단축하고, 보다 안정적인 결과를 제공합니다. 90 시리즈는 photolithographic 처리를 위한 완벽한 통합 솔루션을 제공합니다. 자동으로 포토마스크 웨이퍼의 로드 및 언로드, 종이 웨이퍼 로드/언로드를 처리합니다. 수작업 (manual operation) 의 필요성이 없어지고 제조 공정의 효율성이 향상됩니다. 이 도구는 또한 베이커라인 Photomask 자산 (Bakerline Photomask Asset) 과 같은 자동 소프트웨어 및 하드웨어 도구를 사용하여 웨이퍼 로드 및 언로드를 추가로 최적화합니다. 이 모델에는 나노 미터까지 결함을 식별 할 수있는 고급 SEM 이미징 스테이션이 있습니다. 따라서 제품 관련 문제를 찾아서 해결할 수 있는 기능이 향상되어 심각한 손상이 발생합니다 (영문). 마지막으로, 완전 자동화된 비파괴 웨이퍼 검사 도구는 최고 수준의 품질 제어를 보장합니다. 전반적으로 SVG/ASML 90 Series (SVG/ASML 90 시리즈) 는 신뢰할 수 있고 예측 가능한 결과를 제공하면서 광도 마스크를 빠른 속도로 정확하게 패턴화하는 포괄적 인 광석학 솔루션입니다. 이 장비는 반도체 산업의 요구를 충족시키기 위해 특별히 설계되었으며, 광석기 (photolithographic) 프로세스에 대한 상세하고 정확한 제어를 제공합니다.