판매용 중고 SVG 90S #9206219

SVG 90S (Sub-micron Vapor-phase Growth) 는 서브 미크론 스케일에서 고품질 유전체, 금속 및 기타 재료를 처리하기위한 신뢰할 수있는 PECVD (Photochemical Vapor Deposition) 시스템입니다. 일반적으로 high-k 및 low-k 유전체 필름 증착, metal sputtering 및 etching과 같은 광범위한 반도체 프로세스에 사용됩니다. SVG 90-S의 핵심에는 직경이 최대 25mm 인 웨이퍼를 처리 할 수있는 C2 회전로가 있습니다. 2 개의 동심 수평 실린더와 외부 튜브를 사용하여 저압 PECVD 처리를 달성합니다. 원자로 내부에서, 웨이퍼는 매우 낮은 속도로, 반응물 가스의 정확하게 제어 된 혼합물에 노출된다. 이것 은 물질 을 기화 시켜, 핵 을 생성 시키고 "웨이퍼 '표면 으로 자란다. 원자로 내의 반응성 종은 할로겐 램프 (halogen lamps) 로부터의 빛의 깜박임에 의해 발화되어 과정을 시작합니다. 이 시스템을 통해 90 S (90 S) 는 마스킹없이 넓은 지역에 걸쳐 장벽과 증착률을 쉽게 조정 할 수 있기 때문에 퇴적 된 필름의 매우 높은 균일성과 적합성을 달성 할 수 있습니다. 임계 치수가 극도로 낮은 와퍼의 상세 패턴 및 두꺼운 필름 (예: 최소 잔류 스트레스) 을 달성 할 수 있으므로 로우-k 및 하이-k 증착 프로세스에 이상적입니다. 저온에서 반응이 발생하여 유기 입자 (organic particle) 의 오염 위험을 제거함에 따라 기질은 깨끗하게 유지됩니다. 또한 90S는 직관적인 터치 스크린 컨트롤 패널로 완전히 자동화됩니다. 이를 통해 사용자는 필름 증착율, 가스 흐름, 온도를 매우 정밀하게 제어 할 수 있습니다. 반복 가능한 응용 프로그램에 대해 여러 프로세스 레시피를 저장, 회수할 수 있으며, 생산성 향상을 위해 여러 레시피를 동시에 완료할 수 있습니다. 스보그 90 S (SVG 90 S) 는 마이크론 (micron) 이하의 규모로 고품질 재료를 패턴화하고 예치하는 능력으로 광범위한 반도체 응용을위한 다재다능한 도구다. 정확성과 반복성은 서브 미크론 수준의 포토 esist 처리에 이상적인 선택이며 스퍼터링, 에칭, 접촉 형성과 같은 보조 반도체 작업을 다룹니다.