판매용 중고 SVG 8838 VP #9183892

SVG 8838 VP는 반도체 제조에서 정밀 에칭을 위해 설계된 고성능 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 photoresist, developer 및 stripper의 세 가지 주요 구성 요소로 구성됩니다. 포토 esist (photoresist) 는 광에 민감한 특성을 갖는 폴리머의 한 유형이며, 에칭 전에 기판의 특정 영역을 마스크하는 데 사용된다. 그런 다음, 개발자 는 "포토레지스트 '를 기판 의 원하는 부분 에 용해 시키고, 기본 물질 을 노출 시키고" 에치' 를 할 준비 를 갖추는 데 사용 된다. 그런 다음 스트리퍼를 사용하여 웨이퍼에서 나머지 포토 esist를 제거합니다. 8838 VP 포토 esist 유닛은 점도가 낮은 액체 상태와 0.2 미크론의 고해상도로 인해 탁월한 정확도를 제공하여 매우 정확한 에칭 결과를 제공합니다. 저면 장력 (low-surface tension) 과 용해도가 높아 고속 처리에 적합하기 때문에 빠르게 작용합니다. 이 기계는 광범위한 프로세스 제어 (process control) 를 갖추고 있어 개발자의 정확한 제어를 가능하게하며, 유연하고 효과적인 에칭 결과를 위해 침식 수준이 낮은 높은 에치 레이트 (etch rate) 를 제공합니다. 이 도구는 여러 애플리케이션을 위해 설계되었으며, 대부분 단일 레벨 (Single Level) 및 다중 레벨 패턴 생성 (Multi-Level Pattern Generation) 과 고가용성 (High-Aspect Ratio) 기능 생성에 사용됩니다. SVG 8838 VP는 또한 뛰어난 호환성을 제공하며 매우 미세한 에칭 및 레이저 직접 이미징 (LDI) 을 허용합니다. 에셋은 낮은 기질 온도를 특징으로하며, 온도 범위는 16 ° C ~ 28 ° C이며, 특히 GaAs 및 SiC를 포함한 고온 민감도 기질에 유용합니다. 요약하면, 8838 VP는 정밀 에칭을 위해 개발 된 포토 esist 모델입니다. 탁월한 정확성과 프로세스 제어를 제공하며, 표면 장력이 낮고, 높은 용해도를 제공하여 빠른 연기 결과를 얻을 수 있습니다. 다양한 애플리케이션이 단일 레벨 (single level), 다중 레벨 패턴 생성 (multi-level pattern generation), 고화질 (high-aspect) 기능 생성 등 다양한 애플리케이션에 적합합니다. 또한, 고온 에 민감 한 기질 에도 유익 하다.