판매용 중고 SVG 8836 #293608555

SVG 8836은 SVG Laboratories, Inc.에서 만든 포토 esist 장비입니다. 반도체 제조의 석판화 공정에 사용하도록 설계되었습니다. 저항 시스템은 포토 esist, 개발자, 재 및 파편 제거, 재 억제제, 표면 장력 수정제 및 첨가제 등 여러 구성 요소로 구성됩니다. 이미징 레지스트 (Imaging resist) 라고도하는 포토 레 시스트 (Photoresist) 는 리소그래피에서 마스크에서 기판으로 패턴을 전달하는 데 사용되는 빛에 민감한 물질입니다. 광원에 반응하고 기질에 불용성 패턴을 형성하는 감광 물질 (photosensitive material) 이다. 포토레스 (photoresist) 단위에는 다양한 포토리스트 (photoresist) 가 포함되어 있으며, 각각 고유 한 특성과 특성을 가지므로 다른 응용 분야에 적합합니다. "레지스트 '는 기판 에 적용 된 다음 광원 에 노출 된다. 방사선 은 광소시스트 (photoresist) 의 화학 물질 을 활성화 시키는데, 그 물질 의 물리적 특성 을 변화 시킨다 - 그것 은 용해 되지 않게 되어, 기질 에 무늬 를 형성 한다. 노출 후, 개발자는 노출되지 않은 중복 포토레지스트를 제거하고 패턴을 밝히는 데 사용됩니다. 개발자는 노출 된 물질과 반응하여 기판에 불용성 패턴을 형성합니다. 그런 다음 8836 은 재 (ash) 와 부스러기 (debris) 리모버 (remover) 를 사용하여 기질 표면에서 나머지 모든 포토 esist 및 기타 유형의 입자를 제거합니다. 이것은 기판에서 고품질 패턴을 보장합니다. 특히 멀티레이어 (multilayer) 구성 요소에 중요합니다. 즉, 청결은 작동 중 높은 신뢰성을 위해 매우 중요합니다. 또한 SVG 8836 에는 재 억제제 (ash inhibitor) 가 들어 있는데, 이 억제제 는 광저장제 (photoresist) 와 개발자 의 반응 을 제한 시켜 제거 해야 할 재 (ash) 와 부스러기 의 양 을 감소 시키는 데 도움 이 된다. 표면 장력 수정자 (surface tension modifier) 는 개발자의 표면 장력을 조정하여 포토 esist를 더 쉽게 제거 할 수 있습니다. 마지막으로, 8836 에는 첨가제가 포함되어 있어 저항기 (resist machine) 의 성능을 세밀하게 조정하고 특정 애플리케이션에 맞게 조정합니다. 요약하기 위해, SVG 8836은 반도체 제조의 리소그래피 공정에 사용되도록 설계된 포토리스 (photoresist) 도구입니다. 자산은 다양한 photoresist, 개발자, 재 및 파편 제거, 재 억제제, 표면 장력 수정제 및 첨가제로 구성됩니다. "마스크 '에서 기판 으로 훌륭 한" 패턴' 을 전달 하기 때문 에, 고품질 과 믿을 만한 구성 요소 에 중요 하다.