판매용 중고 SVG 8826 #9399874

SVG 8826은 Shin-Etsu Chemical Co.에서 개발 한 고급 포토 esist 장비입니다. Ltd. (SEC). 매우 까다로운 플라즈마 에치 (Plasma Etch) 와 리핑 (Striping) 응용 프로그램에서 탁월한 성능을 제공하도록 설계된 전문적인 네거티브 작업 포토리스 시스템입니다. 이 장치는 polyimide 기반 필름과 개발자 솔루션의 두 가지 구성 요소로 구성됩니다. 8826 년에 사용 된 폴리 이마 이드 기반 필름은 크로스 링크 된 폴리 비닐 알코올 기반 광 증기 층을 갖는 방향족 폴리 이미 드 기질로 구성된다. 이것은 매우 안정적이지만 탄력적 인 구조를 만들어내며, 이는 열적, 혈장 처리 조건을 견뎌낼 수 있습니다. 폴리 비닐 알코올 기반 포토 esist 층은 유기 용매 및 에친트에 저항하기 위해 특별히 공식화되어, 에치 (etch) 및 저항 스트리핑 응용에 적합하다. 또한 미세한 선과 높은 석판 제어의 좋은 해상도를 보여줍니다. 동반 개발자 솔루션은 양성 (positive) 과 부정 (negative) 개발 프로세스 모두에서 뛰어난 대조를 제공하기 위해 개발되었습니다. 독점적 인 독점적 인 azo-substituted amide를 기반으로하며 표면 장력, 긴 선반 수명 및 높은 해상도를 나타냅니다. 또한, 수성 목욕탕과 비 수성 목욕탕에서 높은 린스 효율이 특징이며, 화학 물질을 재사용하거나 재사용하기에 적합합니다. 탁월한 성능 특성 외에도 SVG 8826 머신도 비용 효율적입니다. 폴리이 미드 기반 필름 (polyimide-based film) 은 유기 용매 및 화학 물질에 대한 높은 저항성, 열 및 플라즈마 에치 (etch) 동안 낮은 부작용을 특징으로하기 때문에 추가 화학 물질이 필요하지 않고 쉽게 처리 할 수 있습니다. 또한, 재사용 가능한 개발자 솔루션은 일회용 개발 솔루션에 비해 비용 절감 효과를 제공합니다. 8826 은 특수 제작된 포토레시스트 (photoresist) 툴로, 저렴한 비용으로 탁월한 성능 특성을 제공합니다. 또한, 고유 한 컴포지션 및 처리 기능을 통해 고급 플라즈마 에치 (plasma etch) 에 적합하고 스트리핑 응용 프로그램에 저항합니다. 궁극적으로 SVG 8826은 까다로운 응용프로그램을 위해 효과적이고 안정적인 포토레시스트 (photoresist) 에셋을 제공합니다.