판매용 중고 SVG 8820 #293749266

SVG 8820은 IC (Integrated Circuit) 장치 생산에서 신뢰할 수있는 리소그래피 프로세스를 가능하게하는 포토리스 시스템입니다. SADP (Self-Aligned Double Patterning) 및 PSC (Pitch Split Double Patterning) 와 같은 이중 패턴 접근 방식에 최적화되는 양성 톤 딥 UV 저항입니다. IC (Small Feature Size) 를 생성하는 데 필수적인 툴로 입증되었습니다. 8820 시스템의 핵심에는 포토 esist 재료가 있습니다. 이러 한 것 들 은 얇고 균일 한 "필름 '속 에 있는 반도체" 웨이퍼' 에 적용 하도록 설계 된 액체 광도사 들 이다. 자외선 "레이저 '와 같은 광원 에 노출 되면, 광전물질 은 화학적 반응 을 일으켜, 개발자 용액 에 용해 되지 않게 된다. 이러한 선택적 용해성은 석판 구조의 개발을 가능하게한다. SVG 8820은 193nm 침수 리소그래피 도구와 함께 사용하도록 최적화되었습니다. 단일 및 이중 패턴 방식과 모두 호환됩니다. 그것의 deep-UV 흡수 성은 전통적인 photoresist보다 높은 해상도를 가능하게하며, 단일 및 이중 패턴 프로세스에서 deep-uv 파장의 노출을 보장합니다. 또한, 8820의 흡수성은 더 나은 라인 에지 거칠기를 보장하며, 지형 및 라인 엔드 효과를 줄입니다. 또한, SVG 8820은 기존의 포토 esist보다 높은 감도를 보여, 하루에 노출 된 웨이퍼의 처리량을 높입니다. 개발자 솔루션에서의 용해성은 노출 후 신속한 처리를 가능하게합니다. 또한 웨이퍼 레벨 (wafer-level) 축소를 위해 인쇄 가능한 잉크와 잘 작동하여이 시스템은 더 넓은 범위의 웨이퍼 크기에 대해 리소그래피 프로세스 (lithography process) 를 확장하는 데 특히 유리합니다. 8820 은 칩 제조에서 가장 까다로운 프로세스를 위해 고급 리소그래피 (lithography) 프로세스에 사용하도록 설계되었습니다. 고해상도 (High Resolution) 와 감도 (Sensitivity) 는 이중 패턴 IC 장치에 이상적인 선택이며, 개발자에서의 용해성은 신속한 프로세스를 통해 대규모 웨이퍼 생산에 매력적인 선택이 가능합니다.