판매용 중고 SVG 8800 #29252

SVG 8800은 회로 기판 제조를위한 고급 이미징 기능을 지원하는 차세대 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 기존 이미징 시스템에 사용되는 전자 빔 리소그래피 (EBL) 와 파인 라인 회로 기판 제조에 사용되는 고급 에칭 기법의 기능을 결합합니다. 그 결과, 오늘날 반도체 업계에서 사용 가능한 최고의 이미징 해상도를 제공하는 이미징 시스템이 탄생했습니다. 이미징 장치는 강렬한 자외선 (UV) 빛을 활용하는 포토 esist 기술을 기반으로합니다. photoresist 물질은 일반적으로 UV 빛을 흡수하는 얇은 금속 층으로 구성됩니다. 자외선 (UV light) 의 광자는 금속 레이어에 작용하여 재료의 특성을 변경합니다. 이러한 변화를 통해 회로 피쳐를 생성하기 위해 금속 레이어에서 새로운 전기 경로 (electrical path) 와 에치 마크 (etch mark) 를 구성할 수 있습니다. 8800 에 사용된 강렬한 자외선 (UV Light) 을 사용하면 그 어느 때보다 정밀도가 높은 회로 (Circuit) 기능을 생성할 수 있습니다. 이것은 표준 전자 빔 노출 시스템보다 높은 해상도로 인해 달성 할 수 있습니다. 이 해상도를 통해, 기계는 현대의 전자 제조 (electronics manufacturing) 에 필수적인 엄청나게 작은 기능과 추적 (tracing) 을 형성 할 수 있습니다. 또한, SVG 8800 은 응용 프로그램에 따라 조정할 수 있는 다양한 노출 설정을 사용자에게 제공합니다. 이러한 설정은 사용자가 다양한 회로 응용 프로그램 (Circuit Application) 에서 최고 품질의 이미지를 만들 수 있는 유연성을 제공합니다. 가변 조리개 마스킹 (variable-aperture masking) 기능을 사용하면 최소한의 노력으로 단일 사이트에서 다중 노출 설정을 생성할 수 있습니다. 또한 8800 에는 노출 설정 및 이미지 분석을 위한 강력한 데이터 분석 툴도 포함되어 있습니다. 이 분석을 통해 노출 설정 (Exposure Settings) 단계에서 신속한 피드백을 얻을 수 있으며, 정확한 의사 결정을 통해 이미징 결과를 최적화할 수 있습니다. SVG 8800 자산은 40nm에서 1nm까지 기능 크기를 생성 할 수 있으며, 이미징 해상도는 하위 미크론 크기입니다. 이는 작은 기능 크기가 중요한 Maskless Direct Write, 모든 반도체 어플리케이션에 대한 고정밀 이미징과 같은 어플리케이션에 이상적입니다. 전반적으로, 8800은 사용자에게 매우 높은 수준의 이미징 해상도와 에치 (etch) 정확도를 제공하는 고급 포토레지스트 (photoresist) 모델입니다. 다양한 조정 가능한 노출 설정 (Imposure Settings) 과 강력한 데이터 분석 장비 (Data Analysis Equipment) 를 통해 다양한 회로 응용 프로그램에서 정확한 이미지를 생성할 수 있으므로 현대 전자 제품 제조에 귀중한 도구입니다.