판매용 중고 SVG 86 #9163180

SVG 86은 실리콘 밸리 그룹 (SVG) 이 반도체 산업에 사용하기 위해 개발 한 포토 esist 장비입니다. 뛰어난 인쇄 결과, 신뢰할 수 있는 에지 해상도, 노출 위도, 단일 사진, 유동 저항입니다. 이 시스템은 포토 esist 재료, 이미지 마스크, 포토 esist 개발자 솔루션 및 화학 처리 장치로 구성됩니다. 사용 하여, 광물질 은 반도체 "웨이퍼 '의 표면 에 적용 되고" 이미지 마스크' 로부터 자외선 (UV) 에 노출 된다. 빛은 저항의 특정 부분을 용해시키는 반면, 다른 부분은 그대로 남아 있습니다. 나머지 부분 은 "웨이퍼 '에 옮겨질" 패턴' 을 형성 한다. 86은 일정한 두께의 재료 (material) 및 균일한 모서리 해상도로 고해상도 이미지를 생성하도록 설계되었습니다. 광도 (light sensitivity) 가 낮아 고강도 (high-intensity) 에 노출될 수 있지만 깨끗하고 정밀한 이미지를 만들 수 있습니다. 저항은 또한 뛰어난 화학 저항성을 가지고 있으며 표백, 부식, 에칭에 강합니다. SVG 86은 다양한 반도체 제작 프로세스에 사용됩니다. MEMS (microelectromchanical system), 마이크로 컨트롤러 및 통합 칩셋과 같은 다양한 구성 요소를 만드는 데 사용됩니다. 또한 photoresistor, 박막 트랜지스터 및 발광 다이오드 (LED) 의 제작에도 사용됩니다. 또한 태양 전지와 태양 광 전지를 패턴화하는 데 사용됩니다. 이 기계는 대용량 및 고정밀 제작에 적합합니다. 그것은 일반적으로 변형된 실리콘, 저마늄, 화합물 반도체, 나노 구조와 같은 고급 재료의 제작에 사용됩니다. 이 도구는 사용하기 쉽고 운영자 교육을 최소화해야 합니다. 86 은 매우 다양 한 "반도체 '용도 에 적합 한, 경제성 이 높은 광소시스트 (photoresist) 용액 으로 설계 되었다. 결함률이 낮고 수확량이 높아 신뢰성이 높습니다. 따라서 대용량 (high-volume) 생산에 이상적이며, 완료된 디바이스의 안정성과 성능을 향상시킵니다.