판매용 중고 SVG 86 #293814153

SVG 86은 고해상도, 고해상도 이미지를 만들도록 설계된 디지털화된 포토레시스트 장비입니다. 광저항제 (photoresist) 는 빛에 노출되면 더 잘 용해되는 물질로, 반도체에서 평면 패널 디스플레이 (flat panel display) 에 이르기까지 다양한 기판에 회로 패턴을 만들 수 있습니다. 86 시스템은 OPC (optical proximity correction) 라는 고유 한 기술을 사용하여 전통적인 사진 해설에 내재 된 문제를 해결합니다. OPC 는 "컴퓨터 '를 사용 하여 노출 된 물질 위 의 빛 의 길 을 인도 하며, 그 로 인해" 칩' 이나 "디스플레이 '에 있는 특징 의 크기, 모양, 위치 를 제어 하고 조정 할 수 있다. SVG 86 장치는 파장 355nm의 이중 빔 스캐닝 Ytterbium 레이저 스캐너를 사용하며, 이는 다각형 및 라인 유형 기능을 모두 형성 할 수 있습니다. 이 "레이저 '광선 은 기판 꼭대기 에 위치 한 광저항 층 에 정확 히 초점 을 맞추고 있으며, 폭 은 0.8" nm' 를 넘지 않는다. 스캐너 (scanner) 의 광원은 서피스로 전송할 수 있는 패턴을 생성하고 모양, 선, 텍스트를 생성하는 데 사용됩니다. 86 기계는 또한 포토레스 디스펜스 (photoresist dispense) 도구를 가지고 있으며, 원하는 최종 결과에 필요한 포토리스 (photoresist) 의 유형과 양을 결정하는 데 사용된다. 노즐 (nozzle) 을 사용하여 기판에 얼마나 많은 포토레시스트가 배치되는지 제어하면, 사용자는 원하는 패턴을 서피스에 각인시킬 수 있습니다. 또한, SVG 86에는 검사 에셋 (inspection asset) 과 도량형 스테이션 (metrology station) 이 장착되어 있어 만들어진 패턴의 정확성을 보장합니다. 이 과정은 빠르고 정밀하게 수행되며, 사용자는 최대 99.993% 의 생산 수익률을 낼 수 있으며, 이는 전통적인 리소그래피 (lithography) 기법으로 생성 된 수익률보다 훨씬 큰 수치입니다. 86 photoresist 모델은 복잡한 모양과 높은 정밀도로 이미지와 패턴을 만드는 데 적합한 도구입니다. 사용자는 OPC (OPC) 기능을 활용하여, 추가 장비 없이도 최소 몇 단계의 복잡한 기능과 모양을 생성할 수 있습니다. 생산량이 높고, 비용 효율성이 높아 고품질 (HP) 이미지를 생산하기 위한 실용적이고 경제적인 솔루션을 찾는 사람들에게 적합한 선택입니다.