판매용 중고 SVG 8136 HPO #149607

SVG 8136 HPO는 반도체 제작 및 기타 고급 어플리케이션을 위해 설계된 포토리스 (photoresist) 장비로, 최고 해상도와 최고의 기능 제어가 필요합니다. 이 포괄적 인 시스템은 가장 깨끗하고 정확한 저항 형성 및 에칭을 허용합니다. 8136 HPO (Advanced chemically-amplified photoresist spun) 는 스핀 코터 (spin coater) 에서 기판층에 스펀되고 원하는 피쳐 크기에 의해 결정되는 특정 파장의 UV 빛에 노출된다. 이 빛 의 노출 은 "레지스트 '와 기질 층 사이 의 화학 반응 을 촉발 시켜, 기질 의 전기 특성 을 변화 시킨다. 기본 계층의 얇아짐으로 인해 많은 첨단 기술 (advanced technologies) 이 요구하는 미세 구성 (microfabrication) 이 가능합니다. SVG 8136 HPO는 또한 개발 트랩 복구 프로세스를 사용하여 정확한 패턴화를 보장합니다. 개발 솔루션 (developing solution) 은 과도한 포토레시스트를 해제하고 장치 제조에 필요한 패턴 만 남기는 데 사용됩니다. 트랩핑 단계에서는 선입선 (First-In-First-Out) 방법을 사용하여 패턴의 모서리를 트래버스하고 가장자리를 매끄럽게 합니다. 이것은 산소 플라즈마 (oxygen plasma) 또는 습식 발달 후 처리를 사용하여 완벽하게 선명한 패턴을 확보 할 수 있습니다. 정확성과 청결성을 더욱 높이기 위해 8136 HPO (HPO) 는 장치와 기판에 모두 업계 최고의 접착 제어를 제공합니다. 이 제어는 고속 가열 (Rapid Thermal Control) 방식을 통해 고속 가열과 냉각 (Cooling) 이 기판에 더 깊이 침투하여 더 나은 접착을 만들 수 있습니다. 또한, 이 장치는 특수 재료와 공식화 된 고성능 저항기 (HPR) 의 통합 덕분에 마모 저항을 개선했습니다. 마지막으로 SVG 8136 HPO는 온보드 마이크로 컨트롤러로 구동되는 업계 최고의 SPR (Sensing Photo Resist) 최적화 소프트웨어 제품군을 갖추고 있습니다. 이 기계는 정밀 노출 수준을 제어하여 해상도가 가장 높은 결과를 확인합니다. 이 제품군은 또한 사진 (photolithography) 프로세스를 보다 효과적으로 제어하기 위한 상세한 추적 및 감사 기능을 제공합니다. 요약하면, 8136 HPO는 가장 깨끗하고 가장 상세한 반도체 구조를 제작하기위한 고급 도구입니다. 업계 최고의 photoresist 기술, 개발-트랩-복구 프로세스 및 독점 SPR 최적화 소프트웨어 제품군은 최고의 효율성과 정확성을 제공합니다.