판매용 중고 SVG 16233 #9397148

SVG 16233은 SVG (Specialty Verification Group) 에서 제조 및 판매 한 포토리스 장비입니다. 반도체 및 마이크로 일렉트로닉 응용 분야에 사용하도록 설계된 2 성분, 물 기반 광사 시스템입니다. 이 장치는 웨이퍼 위에 얇고 균일 한 폴리머 장벽을 형성하는 방법을 제공합니다. 16233은 감수기와 저항의 두 가지 구성 요소로 구성됩니다. "민감제 '는" 실리콘 웨이퍼' 와 같은 기질 의 표면 에 흡착 하도록 설계 된 유기 화합물 의 용액 이다. 민감제 적용 후, 기질은 광원, 일반적으로 자외선에 노출된다. 빛은 화학 반응을 일으키고 민감제는 표준 용매에 녹지 않는 중합 구조 (polymeric structure) 로 전환된다. 이 중합 구조를 저항이라고합니다. SVG 16233 포토 esist 기계에 의해 형성된 저항은 웨이퍼 위에 얇고 균일 한 장벽입니다. 얇은 저항층 은 "웨이퍼 '의 도핑 된 층 을 화학" 에칭' 으로부터 보호 하는 데 사용 될 수 있다. 저항 (resist) 은 또한 제조 과정에서 마스크 역할을하면서 패턴 회로에 대한 지형 제어를 향상시킵니다. 저항에 의해 형성된 장벽은 또한 더 두꺼운 층 (photoresist system) 을 사용할 때 발생하는 2 차 산화를 막을 수있다. 16233은 photoresist 응용 프로그램에서 사용하기 쉽도록 설계되었습니다. 두 컴포넌트는 표준 마이크로 마스킹 기법과 호환되며, 자동 스핀 코팅 (spin-coating) 을 통해 공구를 적용할 수 있습니다. 또한, 자산은 저항과 기판 사이에 좋은 접착력을 제공하여 마스크 (Mask) 와 회로 (Circuit) 를 안정적으로 해제 할 수 있습니다. 이 모델은 또한 고온에서 안정적이며, 후속 처리 단계에 화학적으로 저항합니다. SVG 16233은 다양한 반도체 및 nanofabrication 프로세스에 사용하기에 적합한 간단한 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 2 개의 구성 요소로 구성되어 있으며, 적용이 쉽고 일관된 탄소 기반 저항을 제공합니다. 얇은 저항층 (thin resist layer) 은 제조 과정에서 좋은 접착 및 지형 제어를 제공 할 수 있으며, 산화 및 에칭으로부터 웨이퍼를 보호 할 수 있습니다.