판매용 중고 STEAG / MICROTECH 9180038 #293625333

STEAG/MICROTECH 9180038 photoresist 장비는 그라비아 및 오프셋 인쇄 전문가를 빠르고 고해상도 이미징을 제공하도록 설계된 최첨단 마이크로 리토 그래피 시스템입니다. 포토레시스트 (photoresist) 장치는 고급 이미징 기술을 사용하여 인쇄 및 그래픽 전문가가 뛰어난 디테일, 정확도, 일관성을 갖춘 고품질 이미지를 제작할 수 있습니다. 이 기계는 노출, 마이크로 에칭 (microetching), 포토레시스트 에찬트 (photoresist etchant) 의 독특한 독점 조합을 사용하여 현대 인쇄 및 그래픽 산업의 요구에 부합하는 소규모의 이미지를 빠르고 신뢰할 수 있습니다. STEAG 9180038 포토레시스트 (photoresist) 도구는 인쇄 및 그래픽 전문가가 고급 미디어 자료와 협력하고 일관된 결과를 얻을 수있는 고급 물리 및 노출 매개변수를 특징으로합니다. 고급 마이크로 에칭 (micro-etching) 및 노출 매개변수를 사용하면 노출 손실을 최소화하면서 일관성 있고 정확한 노출 결과를 얻을 수 있습니다. 또한, 이 자산은 미디어 프로세싱에 노출될 수 있는 손상을 방지하기 위해 고안되었으며, 사용자가 반복 가능한, 고품질 이미지를 얻을 수 있게 해 줍니다. MICROTECH 9180038 모델의 노출 속도는 이미지 해상도를 저하시키지 않고 디지털 (digital) 및 오프셋 (offset) 인쇄를 처리하기에 충분히 빠릅니다. 9180038 포토리스 (photoresist) 장비는 또한 뛰어난 마스킹 정밀도를 제공하여 미디어의 노출 및 노출되지 않은 영역이 균등하게 분리되도록 합니다. 이 시스템에는 자동 노출 제어, 향상된 해상도 및 깊이 제어, 자동 방향 (Automatic Orientation) 및 마스킹 조정 등 마스킹 및 노출을 지원하는 강력한 소프트웨어 도구가 포함되어 있습니다. 사용자는 특정 미디어 두께에 대한 마스킹 간격을 사용자 정의할 수도 있습니다. STEAG/MICROTECH 9180038 포토레스 장치 (photoresist unit) 는 또한 기판 매체의 일관되고 안정적인 노출을 보장하기 위해 완전 자동 스트리핑 및 마스킹을 제공합니다. 또한, 사용자는 특정 기판 미디어를 수용하도록 노출 속도를 조정할 수 있으며, 각 노출 주기 (exposure cycle) 를 통해 해상도를 높일 수 있습니다. 이 기계는 또한 정확하고 반복 가능한 노출 및 마스크를 보장하기 위해 자체 교정 기능을 내장했습니다. STEAG 9180038 photoresist 툴은 디지털/오프셋 인쇄 전문가를 위한 강력하고, 안정적이며, 사용자 친화적인 솔루션입니다. 고급 기술과 사용자 정의 가능한 기능을 통해 디테일, 정확도, 일관성이 뛰어난 고품질 인쇄물을 신속하게 생산할 수 있습니다. 이 자산은 '노출 손실' 을 줄이고 '비용 효율적인' 경로를 제공하여 일관되고 반복 가능한 결과를 얻을 수 있도록 설계되었습니다.