판매용 중고 SSE Maximus 804 #293651477

SSE 막시무스 804 (Maximus 804) 는 다양한 사진 촬영 및 마스크 제작 응용 프로그램을위한 포괄적 인 솔루션을 제공하도록 설계된 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 이 시스템은 반도체 장치, 인쇄 회로 (printed circuit) 및 기타 마이크로 일렉트로닉 (microelectronic) 부품의 제작에서 회로 패턴을 기판 또는 웨이퍼로 전송하는 데 사용됩니다. Maximus 804는 "전통적인" 자외선 (UV) 포토 esist 단위를 사용합니다. 즉, 자외선에 민감한 화학 코팅을 사용하여 자외선에 노출 될 때 패턴이 형성됩니다. 이 기계는 효율적이고 정확한 패턴 전송을 보장하기 위해 다양한 구성 요소를 갖추고 있습니다. 모든 컴포넌트의 작동을 담당하는 마스터 도구 컨트롤러 (Master Tool Controller), 처리용 기판의 정확한 배치를위한 정렬 에셋 (Alignment Asset), 다양한 응용 프로그램에 대한 다양한 Photoresist 옵션 (photoresist options) 이 있습니다. 원하는 패턴 결과를 얻으려면 마스크 (mask) 와 기판 (substrate) 을 정확하게 정렬해야 합니다. 모델은 정렬 장비를 사용하여 기판을 정확하게 배치합니다. 정렬 시스템 (Alignment System) 은 디지털 카메라 유닛과 4 축 로봇 암의 조합을 사용하여 서브 미크론 정밀도로 자동 정렬 할 수 있습니다. 이 기계에는 또한 포토레시스트 스프레이 도구 (Photoresist Spray Tool) 가 장착되어 있으며, 이 도구는 특별히 설계된 노즐을 사용하여 얇고 균일 한 포토레지스트 레이어를 기판에 적용합니다. 에셋은 최대 24 인치의 포토 esist 전달 범위를 자랑하며, 쿼츠, 유리, 실리콘 및 다양한 금속과 같은 다양한 기질에 사용될 수 있습니다. 마지막으로, 패턴은 UV 노출 모델 (UV Exposure Model) 에 의해 형성되며, 이는 포토 esist 물질을 자외선 (UV) 빛에 노출시키는 데 사용되는 레이저 소스를 사용하여 기판에 정의 된 패턴을 형성한다. UV 노출 장비 (UV Exposure Equipment) 는 최대 36 인치 크기의 패턴을 생산할 수 있으며 다양한 저항 처리 조건에 대한 광범위한 노출 강도를 제공합니다. 결론적으로, SSE Maximus 804는 다양한 photolithography 및 mask-making 응용 프로그램을위한 포괄적 인 photoresist 솔루션을 제공합니다. Alignment System, Photoresist Spray Unit 및 UV Exposure Machine과 같은 최신 구성 요소 세트가 모두 하나의 도구로 통합되어 photolithography 프로세스에 이상적인 도구입니다.