판매용 중고 SSC BPE-2708-SP #9220820

ID: 9220820
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2006
Gold plating machines, 8" Plating mechanism: Fountain, face-down Manual wafer load and unload Solution: Non-cyanide, Au solution Solution capacity: (14) Cups, 8" Temperature control: Direct heating Mechanism: PID Control Temperature control range: Room temperature to ~70°C Flow rate: Auto control by flow sensor, cup / Pump control mechanism Plating tank: Laminate Upper lid: PVC Cup holder: HT-PVC and PPS, 8" Upper lid arms: SUS Coated with PTFE Upper lid open / Close: Air cylinder Fountain pump: Polypropylene Valve: PTFE AV valve, HT-PVC, PVC and PFA Piping of Au solution: HT-PVC, Polypropylene and PFA Piping of DIW and drain: HT-PVC, PVC, and PFA Piping of exhaust: PVC Plating unit: PVC Cup location: (7) Lines x (2) cups Fountain pumps: (14) MD-100FYK With inverter control: 8~50 L/min With cup / Pump flow rate Circulation pumps: (2) MD-100FYK With inverter control With (2) circulation piping lines Fountain filtration: (14) Sets of PP (housing and cartridge) Circulation filtration: (2) sets of PP (housing and cartridge) Solution level control: N2 level sensor for each solution tank With (2) upper, lower, fixed, additive Sensors: Temperature, leakage, flow rate, area (4) Heaters, 3 kW Power supply: Cabinet (Caster and adjuster) Fixed electrical current 2-Channel switch: (2) 8~3000 mA (8 ~300 mA) Precision: ±0.5 % by 300 mA Control: Sequence control Touch panel and PLC Data recorded PC (30) Programmable numbers (90) Recipes per programmed number Count current mod (mA / Hour) Bump height uniformity: ≤ 5 % (10-15) points / Wafer Bump height uniformity: ≤ 2 um - ≤3 um, 8" (80-120 points) Flow rate: 35 L/min, no leakage from backside Edge contact area / Cathode No plating cup 2006 vintage.
SSC BPE-2708-SP 포토레스 (Photoresist) 장비는 빠르게 발전하는 제조 기술의 요구를 충족시키기 위해 설계된 고급 자동화된 정밀 레이저 노출 시스템입니다. 고도의 정밀도, 고도의 해상도를 필요로 하는 고급 사진 촬영 (photolithography) 어플리케이션에 적합합니다. 이 장치에는 SSC 독점 고체 레이저 기계가 장착되어 있습니다. 이 레이저 도구는 다양한 조절 가능한 주파수, 지속 시간, 에너지 수준에서 고출력 펄스 (puls) 를 생성하여 손상을 입히지 않고 광물질 (photoresist material) 을 정확하고 정확하게 노출 할 수 있습니다. 에셋에는 레이저 노출 과정을 모니터링하고 제어하도록 설계된 한 쌍의 고해상도 카메라 시스템 (A 페어) 이 포함됩니다. 이렇게 하면 레이저의 각 가공 패스가 미리 결정된 패턴을 정확하게 따르고, 이를 통해 포토리스 (photoresist) 가 균일 하게 노출됩니다. 또한이 모델에는 자동 재료 처리 장비 요소가 포함되어 있습니다. 이를 통해 연산자는 photolithography 작업당 2개의 표준 마스크를 빠르고 쉽게 로드하여 처리량을 극대화할 수 있습니다. 재료 처리 시스템 (material handling system) 은 레이저를 발사하기 전에 마스크를 정확하게 배치하여 높은 정밀도, 반복성을 제공합니다. 이 장치에는 고성능 아카이빙 머신도 포함되어 있습니다. 이를 통해 연산자는 쉽게 리콜할 수 있도록 photolithography 설정과 매개변수를 저장하고, 처리량을 극대화할 수 있습니다. 이 도구는 직관적이고 사용하기 쉬운 인터페이스를 통해 제어됩니다. 이 디스플레이에는 photolithography 진행 상황에 대한 실시간 피드백이 포함되어 있으며, 각 레이저 노출 단계의 결과를 시각적으로 요약합니다. 전반적으로, BPE-2708-SP Photoresist Asset은 고정밀도 및 고도 해상도를 요구하는 고급 photolithography 응용 프로그램에 이상적인 솔루션입니다. 강력한 기능 세트 (feature set) 와 자동화된 재료 처리를 통해 처리량이 높으며 모든 작업에 대해 반복 가능하고 일관된 결과를 얻을 수 있습니다.
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