판매용 중고 SPECIALTY COATING SYSTEMS / SCS PDS 2010 #293620079

SPECIALTY COATING SYSTEMS/SCS PDS 2010은 반도체 기판에서 고정밀 코팅 응용 프로그램을 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 고해상도, 디지털 스캐닝 마스크 (digital scanning mask) 및 고도의 균일성으로 적용 할 수있는 독점적 인 플라즈마 수정 코팅 재료 (plasma-modified coating material) 의 두 가지 구성 요소로 구성됩니다. 포토레스 장치 (photoresist unit) 는 코팅의 두께를 균일하게 제어하여 정확한 코팅 적용을 가능하게한다. 포토레스 장치 (photoresist machine) 는 사진 마스크 리소그래피 기법과 함께 사용되어 정확한 기하학적 모양과 얇은 코팅 레이어를 달성 할 수 있도록 설계되었습니다. 포토 esist 재료는 두 가지 주요 구성 요소로 구성된다: 코팅 재료를 보유하는 캐리어 (carrier) 와 포토 esist에게 보호 및 사진 암메트릭 특성을 제공하는 폴리머 매트릭스 (polymer matrix). 포토레지스트 (photoresist) 도구와 함께 사용되는 고해상도 스캔 마스크 (high resolution scan mask) 는 코팅의 정확한 정의를 가능하게 하며 표면 프로파일의 제어를 제공합니다. photoresist 에셋은 코팅 두께를 고도의 균일성과 제어합니다. 이를 통해 재료의 분해 또는 물리적 분해없이 코팅 재료를 장기적으로 사용할 수 있습니다. 이를 통해 코팅 레이어는 장치 수명 동안 일관성을 유지할 수 있습니다. 포토리스 (photoresist) 모델은 또한 다른 석판 마스크 시스템에 적응할 수 있도록 설계되어 다른 프로세스 및 응용 프로그램으로 통합 할 수 있습니다. 광저항 장비는 배치 (batch) 및 단일 레이어 (single layer) 응용 모두에서 사용될 수 있으며 다양한 산화물 및 금속에서 기질 인터페이스에 효과적입니다. 포토레시스트 (photoresist) 시스템은 또한 일관된 균일성과 뛰어난 광학적 특성을 가진 평평한 광학 표면을 생산할 수 있습니다. 포토레스 장치 (photoresist unit) 는 광범위한 동적 각도와 가벼운 굴절 기능으로 광대역 거울과 마이크로 머신 코팅을 모두 생성 할 수 있습니다. SCS PDS 2010은 다양한 어플리케이션에서 뛰어난 성능을 제공하도록 설계된 고정밀 코팅 머신 (high-precision coating machine) 을 제공합니다. 고급 스캐닝 마스크 해상도 및 다양한 코팅 옵션과 함께 2 성분, 캐리어 및 폴리머 매트릭스 (polymer matrix) 를 사용하면 SPECIALTY COATING SYSTEMS PDS-2010은 다양한 기판 표면에 정확하고 균일 한 코팅 레이어를 생성 할 수 있습니다. 즉, 다양한 애플리케이션에서 탁월한 성능을 보장하며, 손상 및 성능 저하를 방지하는 탁월한 보호 기능을 제공합니다.