판매용 중고 SOLITEC 5110 #9043474

솔리텍 (SOLITEC) 5110 photoresist 장비는 기판에서 정확하고 반복 가능한 photoresist 레이어를 생산하도록 설계된 고성능 시스템입니다. 포토레스 레이어는 에칭 (etching) 이나 드릴링 (drilling) 과 같은 다양한 처리 작업의 마스크로 사용되며, 전자 산업의 인쇄 회로 기판, 집적 회로 (integrated circuit) 및 기타 기술 제작의 중요한 구성 요소입니다. 이 장치는 저전력과 뛰어난 장기 안정성을 가진 YAG 기반 광원 인 PLD (Pulsed Laser Diode Direct Write) 헤드를 사용합니다. 이를 통해 뛰어난 피쳐링 이미징 (feature imaging) 과 모서리 정의 (edge definition) 를 통해 단일 패스로 포토리스 패턴 노출이 불가능합니다. 레이저 빔은 음향 광학 변조기 (acousto-optic modulator) 에 의해 변조되어 매우 균일 한 선과 간격 이미지를 생성하며, 특징은 최대 25 미크론입니다. 또한 5110 은 종합적인 GUI (Graphical User Interface) 를 통해 시스템을 쉽게 제어할 수 있습니다. pulse width, exposition time, scan speed 등과 같은 job 매개 변수 설정은 디스플레이를 통해 실시간으로 입력 및 모니터링할 수 있습니다. 또한, 사전 정의된 레시피 라이브러리를 설정하여 작업 (job) 에서 작업 (job) 으로 반복 가능한 성능을 보장하고 새 작업 (job) 을 신속하게 설정할 수 있습니다. 공구는 최대 4 개의 위치로 구성 될 수 있으며, 각 공구에는 동축 시력 시스템 (coaxial vision system) 또는 레이저 변위 센서 (laser displacement sensor) 가 장착되어 노출된 포토레지스트 레이어의 정확한 위치와 정확한 정렬이 가능합니다. 이것은 고품질 출력, 특히 작고 복잡한 프로젝트에서 필수적입니다. 솔리텍 5110 (SOLITEC 5110) 은 고성능 포토레지스트 (photoresist) 에셋으로, 뛰어난 기능 이미징 및 에지 정의를 통해 정확하고 반복 가능한 포토레시스트 레이어를 생산할 수 있습니다. 이 모델에는 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 와 다양한 옵션 컴포넌트 (Optional Component) 가 장착되어 있어 정확한 정렬을 보장하며, 미리 정의된 레시피 라이브러리를 사용하면 작업에서 작업까지 반복 가능한 성능을 얻을 수 있습니다. 유연한 구성과 안정적인 성능으로 인해 전자 부품 (electronics assembly) 및 기타 고정밀 (high precision) 프로세스에 이상적인 솔루션이 됩니다.