판매용 중고 SOLITEC 5100 #293590413

솔리텍 (SOLITEC) 5100 포토레지스트 (photoresist) 장비는 마이크로일렉트로닉스 업계에서 정확하고 복잡한 구조를 개발하기 위해 특별히 설계된 고성능 플랫폼입니다. 이 photoresist 시스템은 여러 레이어와 호환되며 고유 한 듀얼 빔 리소그래피 (dual-beam lithography) 장치를 사용하여 높은 해상도, 속도 및 정확도를 가진 나노 구조를 만듭니다. 그것 은 248nm "레이저 '방사선 과 193nm" 레이저' 방사선 을 사용 하여 원하는 "패턴 '을 기판 으로 균일 하게 전달 하여 작은 구조 를 보다 빠르고 정확 하게 제조 할 수 있게 한다. 이 기계는 초당 최대 8개의 웨이퍼 (wafer) 의 높은 처리율을 관리하며, 데스크탑에는 정확한 위치 지정 및 기판 전송을 위한 자동화된 웨이퍼 처리 도구가 있습니다. 이 자산은 또한 양면/수평 작동을 지원하며, 보다 복잡한 애플리케이션을 위한 기능을 제공합니다. 5100은 광전기 도금 및 플라즈마 에칭과 같은 매우 정밀한 미세 구조 패턴화에 대한 최신 저항을 지원합니다. 포괄적인 사용자 인터페이스를 통해 프로세스의 다양한 계층을 신속하게 설정, 디버깅, 시각화 (visualization) 할 수 있습니다. 전체 리소그래피 (lithography) 프로세스는 하나의 프로그램에서 처리되며, 프로세스 간 전환 시 오류 발생 가능성을 제거합니다. 이 모델에는 고해상도 이미징 (high resolution imaging) 및 과압 스캐닝 (overpressure scanning) 과 같은 기능이 포함되어 있어 작은 구조를 정확하게 패턴화할 수 있습니다. 이것은 확산 광원 (diffuse light source) 을 통해 이루어지며, 이는 패턴 된 피쳐가 선명하고, 정확하고, 재현이 가능하도록 보장합니다. 저항 열 저장 기능은 또한 전체 기판에 대한 패턴 균일성을 최적화합니다. 인쇄 프로세스의 정밀도는 장비의 고속 정렬기 (Fast Aligner) 에 의해 보장됩니다. 빠른 정렬 (Fast Aligner) 은 초점과 기울기를 자동으로 조정하여 시스템 성능과 정렬 정확도를 높입니다. 솔리텍 5100 (SOLITEC 5100) 에는 포토리스토그래피 프로세스를 실시간으로 모니터링 및 추적할 수 있는 프로세스 제어 기능도 있습니다. 5100 포토레시스트 (photoresist) 장치는 미세 구조를 패턴화하는 데 이상적인 선택이며, 고성능 성능과 정밀도 (precision) 로 인해 다양한 업종에 사용됩니다. 첨단 기술, 사용하기 쉬운 인터페이스, 신뢰성 있는 운영 기능을 통해, 빠른 속도와 정확도로 매우 정밀한 미세 구조를 제작하고자 하는 기업에게 이상적인 선택입니다 (영문).