판매용 중고 SICAM ETF / 500 #9069977

SICAM ETF / 500
ID: 9069977
빈티지: 2009
Lab coating dryer line Unwind station with tension control (1) High efficiency single drum dryer (2) Position let off device Tandem 2-roll surface, take up 30" Wide Control panel with Inlet temp Oven temp Outlet temp 440 V, 60 Hz, 3-Ph 2009 vintage.
SICAM ETF/500은 고성능, 저비용, 액체 침수 포토 esist 장비입니다. 첨단 통합 어플리케이션 (Advanced Integrated Application) 을 위한 첨단 기술 중 하나로, 1 미크론 레벨 사양보다 훨씬 낮은 우수한 라인 너비 및 기능 정의를 제공합니다. ETF/500에는 3 개의 구성 요소 모듈이 장착되어 있습니다. 개발자, 활성화된 개발자 및 해독기. 개발자는 photoresist 레이어를 통해 에칭 할 수있는 최적의 에치 속도를 제공합니다. 활성화된 개발자는 사진 활성화 장치 (Photo Activator) 를 포함하지 않는 저항을 통해 에칭 속도를 추가로 제공합니다. 그런 다음, 디타 키퍼 (detackifier) 는 저항이 개발 된 후에 일반적으로 남아있는 끈적끈적한 잔기를 제거하는 데 사용됩니다. 이 시스템은 온도 및 습도 표류를 제거하도록 설계되었습니다. photoresist 과정은 5 단계로 구성됩니다. 코팅, 베이킹, 노출, 개발 및 건조. SICAM ETF/500은 전체 프로세스에 걸쳐 최적의 저항 프로파일, 접착 및 프로파일 제어를 제공합니다. 이 제품을 사용하면 두께 범위가 25 미크론 (mixed technology substrate) 까지 낮출 수 있습니다. ETF/500은 또한 극도로 낮은 잔류 스트레스 수준을 제공하여 dimensin 제어에서 가장 높은 정확도를 보장합니다. 우수한 에치 성능 외에도, 순차적 멀티 스테이지 공정으로 인해 SICAM ETF/500으로 우수한 이방성 에치가 달성됩니다. 5 볼트에서 분당 최대 500 미크론 (micron) 의 에칭 속도를 갖춘이 장치는 매우 얇은 기판에서 복잡한 기하학을 에칭 할 수 있습니다. 이 기계의 다중 포트 (multiple-port) 설계는 다양한 리드 항목과 비 리드 (nonlead) 아이템을 허용합니다. 노출 헤드는 또한 스팟 크기의 정확한 초점과 배치에 맞게 조정할 수 있습니다. ETF/500에는 내구성이 뛰어난 배송 도구가 장착되어 있습니다. 자산에 사용 된 전달 액체 (delivery fluid) 는 돌파 (break through) 에 저항하기 쉽고 깨끗한 화학 전달 모델을 제공하여 입자 제거를 높이고 우수한 접착력을 보장합니다. 이 장비는 오염을 최소화하도록 설계되었습니다. 모든 구성 요소에는 공기 필터 (air filter) 가 장착되어 있어 원치 않는 미립자가 저항과 접촉하지 않습니다. SICAM ETF/500은 안정적이고 사용하기 쉽습니다. 모든 프로세스에서 높은 신뢰성을 제공하며 다운타임을 최소화할 수 있습니다. 이 시스템은 또한 다양한 액세서리 (accessory) 를 사용하여 사용자의 애플리케이션에 완벽하게 통합됩니다. ETF/500은 SMB (중소, 중견, 성장 기업) 운영 요구 사항에 적합합니다.
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