판매용 중고 SHINCRON RAS-1100C #293764211

신크론 RAS-1100C (SHINCRON RAS-1100C) 는 고품질 결과를 내면서 다양한 조건에서 안정적으로 유지되도록 설계된 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 이 시스템은 고정밀 광원을 사용하여 광학 패턴을 photoresist 레이어에 투영합니다. 이를 통해 패턴의 빠르고 정확한 발전이 가능합니다. 이 장치는 0.03 미크론 내에서 결과를 생성 할 수 있으며 최대 해상도는 0.05 미크론입니다. 이 고정밀 광원은 각 photoresist 레이어가 정확하게 인쇄되도록 합니다. 광원은 일정하고, 신뢰할 수 있는 양의 광원을 제공하도록 설계되었으며, 다른 수준의 광도를 제공하기 위해 쉽게 조정 할 수 있습니다. 광원 (light source) 은 광원 (light intensity) 을 제공합니다. 이 기계에는 조정 가능한 노출 시간 (imposure time), 마스크 패턴 (mask pattern) 및 밀도 (densities) 를 포함하여 사용자가 photoresist 프로세스를 사용자 정의할 수 있는 다양한 옵션이 있습니다. 또한 RAS-1100C 에는 개발 과정에서 프로세스를 모니터링하여 정확성을 보장하는 레이어 모니터링 툴이 포함되어 있습니다. 이 자산은 다중 계층 필름 제작, 감지, 반도체, UV 리소그래피 (lithography) 및 기타 여러 산업 프로세스와 같은 다양한 광석기 응용 프로그램 및 프로세스에 사용하도록 설계되었습니다. 이 모델은 다양한 재료에 안전하도록 설계되었으며, 최대 50 미크론 두께의 서피스 (surfaces) 로 인쇄 할 수 있습니다. 또한 SHINCRON RAS-1100C 에는 특정 응용 프로그램에 대한 photoresist 패턴을 최적화하고 구체화 할 수있는 고급 이미징 기능이 포함되어 있습니다. 사용자가 패턴을 분석하고 프로덕션 프로세스를 제어할 수 있도록 다양한 소프트웨어 툴 (software tools) 과 프로그램 (program) 이 장비에 통합되어 있습니다. 또한, 포토리스 (photoresist) 과정 중에 생성 된 위험 (hazard) 으로부터 사용자와 환경을 보호하기 위해 일련의 안전 기능이 마련되어 있습니다. 전반적으로 RAS-1100C 포토레시스트 (photoresist) 시스템은 광범위한 산업 분야에서 안정적인 정확성과 성능을 제공합니다. 사용자는 프로세스를 쉽고, 빠르게 사용자 정의하고, 최적화할 수 있으며, 통합 안전 (Integrated Safety) 기능을 통해 환경을 보호할 수 있습니다. 이 장치는 탁월한 정밀도와 안정성을 제공하며, 사용자에게 뛰어난 품질의 결과를 제공하도록 설계되었습니다.