판매용 중고 SEZ / LAM RESEARCH 4300 #9211221

SEZ/LAM RESEARCH 4300 Photoresist Equipment는 photoresist 및 photomask 재료의 증착을 위해 설계된 고성능, 대용량, 자동 photoresist 시스템입니다. 증착 중 포토 esist 공정의 정밀 제어를 제공하는 고급 기능이 장착되어 있습니다. 이 장치에는 2 개의 독립적 인 처리 실이 포함되어 있으며 다양한 포토 esist 및 photomask 재료에 대한 고급 프리 트리트, 베이크 및 사후 처리 기능을 제공합니다. SEZ 4300 Photoresist Machine은 이동 가능한 단계가있는 풀 사이즈 8 "x 8" 증착실을 특징으로하여 정확하고 반복 가능한 photoresist 레이어 두께를 제공합니다. 이 단계는 수동으로 또는 자동으로 컴퓨터 제어 소프트웨어 패키지를 사용하여 작동할 수 있습니다. 이 도구에는 최적의 photoresist 프로세스 제어를 위해 균일 한 난방 환경을 만드는 Linkam 난방/냉각 단계 (LHS) 도 포함됩니다. LAM RESEARCH 4300 (LAM RESEARCH 4300) 은 정밀한 기판 처리를위한 완전 자동화 된 로봇 암과 포토 esist 레이어 두께를 모니터링 및 제어하기위한 닫힌 루프 피드백 자산을 갖추고 있습니다. 또한 포토 esist 레이어 두께의 정확한 교정 및 정확한 제어를 위해 표준화 된 교정 모델을 포함합니다. 4300에는 기판 평면도 및 표면 거칠기 측정을위한 레이저 빔 프로파일로미터 (laser beam profilometer) 와 같은 고급 공정 제어 기기 (advanced process control instructions) 와 포토리스 연주자 구성의 온라인 모니터링을위한 질량 분석계 (mass spectrometer) 도 장착되어 있습니다. SEZ/LAM RESEARCH 4300 장비는 다양한 기판 및 기판 크기에 대해 높은 처리율과 고수율 포토레스 레이어를 제공합니다. 또한 다양한 포토 마스크 재료 (photomask material) 와도 호환되며 마스크를 제어하고 조정하여 등록 정확도를 기판으로 만들 수 있습니다. 이 시스템에는 구성 가능한 사용자 인터페이스가 포함되어 있어 기존 운영 환경과 손쉽게 통합할 수 있습니다. SEZ 4300 Photoresist Unit은 프로세스 개발, 생산 및 연구 응용 프로그램에 이상적인 고급 고성능 photoresist 증착 기계입니다. 이 도구는 증착 중 포토 esist 공정의 정밀 제어를 제공하며 포토 esist 및 photomask 재료 모두에 대해 균일 한 증착 레이어를 제공합니다. 고급 자동화, 클로즈드 루프 피드백 (closed-loop feedback), 표준 교정 자산 및 내장 안전 기능을 갖춘 이 모델은 처리량 및 수익률이 높은 정확하고 안정적인 photoresist 증착을 제공합니다.