판매용 중고 SEMIX TR 6133UD #9284320

SEMIX TR 6133UD는 뛰어난 기능 해상도, 낮은 왜곡, 높은 공정 안정성 및 낮은 화학 폐기물을 제공하는 고성능 photoresist 장비입니다. 첨단 사진 해설법 (Photolithography) 프로세스를 실행할 때 시간과 인건비를 최소화할 수 있도록, 완전히 자동화되고 프로그래밍이 가능한 시스템입니다. 포토레스 장치 (photoresist unit) 는 광 노출 변조를 주요 도구 기술로 사용하는 고급 진공 노출 기계를 사용합니다. 이 자산은 높은 정밀도, 높은 반복성, 낮은 열 왜곡으로 고급 기능을 노출 할 수 있습니다. 향상된 해상도와 높은 프로세스 안정성으로 인해 TR 6133UD는 매우 작고 정확한 기능 크기를 만드는 데 이상적입니다. SEMIX TR 6133UD 의 가장 두드러진 특징 은, 기존 광학 "시스템 '과 달리, 고급적 이고 정확 한 크기 의 제어 기능 을 제공 하는 것 이다. 이 모델은 멀티 레이어 유전체 증착 (multi-layer dielectric deposition) 을 갖춘 특별히 설계된 광학 마스크를 사용하여 포토 esist가 더 높은 노출 빈도에 노출되어 nm 크기까지 더 큰 기능을 달성 할 수 있습니다. TR 6133UD는 또한 석판 처리 과정에서 화학 폐기물을 최소화하도록 설계되었습니다. 이것은 물과 계면 활성제 조합을 사용하여 화학 폐기물을 줄임으로써 달성됩니다. 또한, 장비는 폐쇄 루프 재생성 사이클 (closed loop regeneration cycle) 을 사용하여 재생성 과정에서 교차 오염의 위험을 최소화하고 공정 수율을 향상시킵니다. SIMIX SEMIX TR 6133UD는 DWELL (Direct Write Electronic Lithography) 기술을 포함하여 가장 진보 된 리소그래피 프로세스를 용이하게하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 여러 코팅 및 스핀 코팅 솔루션과 호환되므로 얇고 두꺼운 기판에 특수 박막 코팅 (thin-film coating) 을 사용할 수 있습니다. 또한 온도와 습도 모니터링이 내장된 고급 (advanced) 기능을 통해 사용자는 언제든지 프로세스 실행을 보장할 수 있습니다 (영문). 강력하고 자동화된 프로그래밍 머신을 사용하면 온도, 노출 시간, 습도 등의 매개변수를 쉽게 제어하여 우수한 결과를 얻을 수 있습니다. TR 6133UD 포토레지스트 (photoresist) 도구는 가장 까다로운 고급 포토리스토그래피 프로세스 (photolithography process) 요구를 충족하도록 설계된 고급, 매우 정확하고 프로그래밍 가능한 도구입니다. 이 자산은 프로세스 안정성 및 화학 폐기물 감소 (chemical waste reduction) 를 향상시켜 뛰어난 기능 해상도와 정확성을 보장합니다.