판매용 중고 SEMIX TR 6133UD #9226635

세믹스 TR 6133UD (SEMIX TR 6133UD) 는 소형 전자, 기계, 반도체 장치 기능 및 구성 요소의 정확성과 정밀도를 직접 촬영하도록 설계된 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 이 시스템은 서브 미크론 (sub-micron) 및 나노 미터 (nanometer) 레벨에서 고해상도 이미징을 수행 할 수 있습니다. 웨이퍼 플레이트는 컨택트 레벨 표면 이미징 (contact-level surface imaging) 을 최대화하는 기능으로 설계되어 매우 정확한 결과를 얻을 수 있습니다. TR 6133UD 장치는 고유 한 포토 esist 코팅을 사용하여 높은 정확도의 직접 리소그래피 이미징을 가능하게합니다. 이 코팅은 최소 라인 너비 변화, 정확한 라인, 신뢰성 있고 재현 가능한 노출을 보장하도록 특별히 설계되었습니다. 또한, 코팅은 공정 정확성을 방해 할 수있는 물, 화학 물질 및 기타 액체 오염 물질에 내성이 있습니다. 이 기계 는 사진술사 "코우팅 '과 함께 여러 가지 독점 기술 을 이용 하여 최대 의 인쇄 정확도 를 보장 한다. 여기에는 특수 렌즈 디자인, 고급 광학 정렬 기술, 포토레지스트 레이어 포지셔닝을위한 엄격한 자동화 (stringent automation) 를 갖춘 매우 정확한 광학 도구가 포함됩니다. SEMIX TR 6133UD 에셋은 다양한 포토레시스트 (photoresist) 컴포지션을 지원하므로 특정 장치 요구 사항에 맞게 이미징 프로세스를 사용자 정의할 수 있습니다. 여기에는 열, 자외선 (UV) 및 심자외선 (DUV) 과 같은 다양한 유형의 조명원이 포함됩니다. 또한이 모델에는 최소 열 드리프트를 보장하기 위해 고해상도, 열로 분리 된 미니 스테퍼 모터가 포함되어 있습니다. 또한 TR 6133UD 장비는 통합 정렬 표시 인식 시스템으로 설계되었습니다. 이 장치는 고정밀 광학 서브머신 (optical sub-machine) 을 사용하여 정렬 표시 (alignment mark) 와 같은 피쳐를 정확하게 측정하고 구별하여 전체 웨이퍼 플레이트에 걸쳐 여러 노출물을 정확하게 정렬할 수 있습니다. 안정적인 작동을 보장하기 위해 SEMIX TR 6133UD 도구는 매우 고품질 제어 자산에 의해 지원됩니다. 이 모델에는 적응 시간, 온도 조절, 자동 레티클 포지셔닝, 고해상도 이미징 기능 등의 기능이 포함되어 있습니다. TR 6133UD 포토레지스트 (photoresist) 장비는 뛰어난 정확성과 반복성을 제공하여, 뛰어난 해상도와 충실도로 매우 정확한 마이크로 및 나노 구조 이미징을 만들 수 있습니다. 최적의 이미징 성능과 통합 제어 시스템 (Integrated Control System) 은 사용자가 가장 까다로운 이미징 어플리케이션에 적합한 고품질의 결과를 안정적으로 생성할 수 있도록 합니다.