판매용 중고 SEMITOOL WST-406MG #35587

ID: 35587
웨이퍼 크기: 4"
빈티지: 2000
Wet solvent stripper, 4" Strip photoresist with water soluble based (NMP) strippers (270) Electropolished bowls: Maximum 6" wafers product Brushless motor Fire suppression No tanks Remote chemical cabinet (2) Tanks: Fresh PRS1000 Reclaim PRS1000 Power: 208VAC, 60 Hz, 30 Amps, 5 Wire BAKER PRS 1000 Positive photoresist tripper Accessories: Chemical delivery module Dual heated chemical tanks, 6 Gal Dual chemical pumps Chemical waste tank with pump Dual chemical filters Features: Front loading with on-axis spin Self-contained fluid dispensing and recirculation Surfaces: Stainless steel or Teflon coating Spray and atomizing manifolds for fluid deliver Microprocessor controlled process Rotor installed for 150mm, P/N: A194-60MB-0215 Sub-system: Chemical cabinet SEMITOOL Graphic controller display screens Power supply: 208 VAC, 50/60 Hz, 30 Amps, 3-Phase.
SEMITOOL WST-406MG는 클린 룸 환경에서 웨이퍼 청소, 에칭, 도금 등 습식 처리를 위해 설계된 최첨단 포토 esist 장비입니다. 시스템은 자동화된 피드백 루프 (feedback loop) 를 사용하여 습식 프로세스의 온도, 농도, 지속 시간을 제어하므로 사용자가 반복 가능한 고품질 결과를 얻을 수 있습니다. WST-406MG (WST-406MG) 는 모듈식 유닛으로, 다양한 프로세스의 요구에 맞게 쉽게 구성할 수 있습니다. 이 제품은 20 ° C ~ 80 ° C의 정밀하고 일관된 온도 범위를 유지하는 고급 디지털 난방 및 냉각기를 통해 온도 제어를 제공합니다. 공구는 또한 pH 미터 (pH meter) 및 적정 조절기 (titration regulator) 를 사용하여 포토 esist 용액의 농도를 정확하게 제어 할 수있다. 또한 SEMITOOL WST-406MG 는 다양한 자동화된 프로세스 제어 기능을 제공하여, 사용자가 손쉽게 조정할 수 있는 시간이 정해진 프로세스를 정확하게 프로그래밍할 수 있게 해 줍니다. 이러한 유연성을 통해 사용자는 자산을 특정 요구 사항에 맞게 손쉽게 조정할 수 있습니다. 이 모델에는 자동 차단 (automatic shut-off) 및 유체 누출 탐지 (fluid leak detection) 와 같은 통합 안전 기능이 있어 사고를 예방하고 청정실 환경이 안전한 작동을 보장합니다. WST-406MG에는 대용량, 정밀한 자동 웨이퍼 처리 장비가 있으며, 단일 처리 주기에서 최대 16 개의 웨이퍼를 수행 할 수 있으며, 최대 웨이퍼 직경은 200mm입니다. 자동 처리 시스템은 반복 가능한 결과와 최소한의 다운타임을 보장합니다. 또한 SEMITOOL WST-406MG 는 데이터 로깅 기능을 통해 프로세스 모니터링 (Process Monitoring) 기능을 제공하므로 프로세스 성능을 실시간으로 기록 및 분석할 수 있습니다. 이 기능은 최종 결과의 품질에 대한 문제 해결 및 개선에 필수적입니다. 전반적으로, WST-406MG는 매우 고품질의 포토레지스트 웨이퍼를 생산할 수있는 고급적이고 유연한 습식 처리 장치입니다. 자동화된 운영 (Operation) 및 통합 안전 (Integrated Safety) 기능은 운영자의 개입을 최소화함으로써 일관된 결과를 보장하므로 까다로운 청소 환경 (Cleanroom Environment) 에 사용할 수 있습니다.
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