판매용 중고 SEMITOOL WST-306MG #9014933
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ID: 9014933
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1999
Spray solvent tool, 8"
Front loading with on-axis spin
Self-contained fluid dispensing and recirculation
System surfaces that come in contact with solvent solutions are stainless steel or Teflon coating
System spray and atomizing manifolds provide flexible patterns for fluid delivery
Microprocessor controlled process recipes perform system functions
Rotor Installed for 8", p/n A192-81M-0215
Power requirements: 208 V, 40 A, 50/60 Hz, 3 Phase
1999 vintage.
SEMITOOL WST-306MG는 고성능 웨이퍼 처리를 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 고급 장치 응용 프로그램의 나노 스케일 구조를 만드는 데 이상적입니다. 최대 6 "웨이퍼를위한 자동 로딩 장치와 정확한 온도 제어를 위해 프로그래밍 가능한 히터/쿨런트 머신 (heater/coolant machine) 을 갖추고 있습니다. 광사 도구는 또한 처리 중 산화를 방지하기 위해 제어 된 대기를 포함한다. WST-306MG에는 포토 esist 코팅 웨이퍼의 정확한 처리를 위해 몇 가지 고급 기능이 포함되어 있습니다. 웨이퍼에 각 패턴의 정확한 초점을 결정하기 위해 3 가지 수준의 자동 광학 (optic) 이 있습니다. 정밀 기판 테이블은 처리하기 전에 photoresist-coated 웨이퍼를 정렬 할 수 있습니다. 이 정렬은 큰 영역 필름이 노출 될 때 패턴의 왜곡을 방지하는 데 중요합니다. 또한, 처리 중에 초점과 스테이지 위치를 자동으로 조정할 수 있습니다. 세미 툴 WST-306MG (SEMITOOL WST-306MG) 는 정밀 스테퍼 모터를 사용하여 노출 될 지역에 따라 미리 정해진 단계에서 웨이퍼를 이동합니다. 또한, 재료의 3D 구조화를 허용하는 높은 종횡비 조명에셋을 자랑합니다. 이 모델은 단순한 패턴 전송을 위해 표준 CAD 시스템과 통합되도록 설계되었습니다. 포토 esist 장비는 안정성과 일관된 성능을 위해 설계되었습니다. 전체 프로세스 전반에 걸쳐 최적의 정렬을 보장하는 견고한 진동 (ribration-free) 기능을 제공합니다. 하위 주변 건조 처리 기능은 포토 esist 필름의 고품질 적용을 보장합니다. 또한 사용자 친화적 인 인터페이스를 통해 작동이 간편하고 효율적입니다. WST-306MG는 궁극적으로 photomask 제작, 반도체 장치 제작, 석판화 마스크 제작, 박막 증착, 광학 요소 생산 등 나노 스케일 연구 응용 분야에 이상적입니다. 고급 광학 및 제어 환경은 나노 스케일 구조를 만들기 위해 정확하고 정확한 처리를 허용합니다. 그런 다음, 이러한 나노 구조를 고급 장치 및 제품의 개발에 사용할 수 있습니다.
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