판매용 중고 SEMITOOL WSST #9400944

SEMITOOL WSST는 SEMITOOL inc.에서 설계 및 제조 한 포토 esist 장비입니다. 2000 년에 출시되었습니다. 다양한 포토 레스트 (photoresist) 와 기능을 선택할 수있는 자동 서브 미크론 포토 리토 그래피 시스템입니다. 이 장치는 프로그래밍 가능한 스캐너로 구성되어 있으며, SEMITOOL 이전 포토 esist 플랫폼 WFST의 2 배의 속도로 최대 28 개의 12 인치 및 6 시스템 기판을 보유 할 수 있습니다. 이 기계는 웨이퍼 클리닝, 습식/건식 에칭, 포토 esist 스트립에 이르기까지 다양한 응용 분야를 다룹니다. 이방성 플라즈마 에치는 높은 레이어 선택성을 제공하며, 고급 3D 서스펜션 기술은 오목 또는 비 평면 기판에서도 균일 한 필름 두께를 가능하게합니다. WSST는 Contact Mask Repair, Multi Layer Insulation Etching 및 Backside Direct Imaging과 같은 라인 프로세스의 백엔드에 최적화되었습니다. 이 제품은 SEMITOOL 이 제공하는 높은 신뢰성 표준 외에, 추가적인 성능을 제공합니다. 그 구성 요소는 완전히 공기를 가지는 폐쇄 역학으로, 최소 진동을 제공하며, 균형 잡힌 열 환경, 효율적인 작동 및 뛰어난 신뢰성을 보장합니다. 또한, SEMITOOL에는 고전류 photoresist 응용 프로그램 및 고유한 HD 스캔 기능과 같은 통합 옵션이 포함되어 있습니다. 단일 기판 생산을위한 추가 T/T (Track Out/Track In) 도구 및 활, 전단 및 지구 온도 표류의 통합 보상을위한 TPL (Transactional Product Lane) 옵션과 같은 다양한 솔루션을 수용 할 수 있습니다. 또한 SEMITOOL WSST는 최고 135도 C 온도와 최대 포토 esist 두께 3500의 Class I 클린 룸 환경에서 사용하도록 설계되었습니다. 이 제품은 자동화된 공정 재료, 컴퓨터 제어, 안전한 전면-후면 컴팩트 (compact) 디자인과 통합되어 있으며, 표준 25 '의 긴 로드 잠금 장치 (load lock) 와 먼지가없는 질소 환경이 설치되어 깨끗함을 보장합니다. WSST photoresist 자산은 인간의 개입없이 모든 범위의 photoresist 제품, Contact Mask 및 MOEMS를 처리 할 수있는 기능을 제공합니다. 즉, 오버헤드가 적은 특정 프로세스 요구 사항을 충족할 수 있는 다양한 기능을 제공합니다. 기능과 다양한 응용 프로그램으로 인해 모든 서브 미크론 리소그래피 (submicron lithography) 프로세스에 이상적인 선택이 가능합니다.