판매용 중고 SEMITOOL ST 270D #9211687

SEMITOOL ST 270D는 구조적으로 정확한 microelectronic 구성 요소를 생성하는 데 사용되는 고성능 photoresist 장비입니다. 이 시스템을 통해 제조업체는 매우 작은 발자국에서 복잡하고 복잡한 3 차원 형상을 만들 수 있습니다. 디지털 리소그래피 (digital lithography) 와 다크 필드 이미징 (darkfield imaging) 을 활용하여 정확한 기하학에서 저항이 패턴화되도록 합니다. ST 270D의 photolithography는 photolithography, PEIT (photoelectronic image transfer), electrodeposition 및 기타 micromachining 응용 프로그램을 포함한 다양한 photoresist 프로세스에 사용될 수 있습니다. Photolithography는 빛을 사용하여 마스크 디자인을 감광 물질로 전송합니다. 이 옵션은 원하는 구조 또는 형상을 생성하는 데 사용됩니다. 피트 (PEIT) 는 빠르고 정확한 패턴화를 통해 형상의 이미징과 정확도를 더욱 향상시킵니다. 전극 (Electrodeposition) 은 고급 응용 프로그램에 사용하기 위해 다양한 기계적, 전기적 특성을 가진 매끄럽고 결함이없는 자유 표면을 생성합니다. SEMITOOL ST 270D는 elektron 빔 리소그래피 (EML) 를 사용하여 3 차원 미세 구조를 생성합니다. 이 장치는 매우 정확하고 아틀라지 볼륨으로 25nm 구조에 3 차원 나노 구조를 생성 할 수 있습니다. 생산 가능한 구조는 저항 패턴에만 국한되지 않습니다. 금속, 유전체 및 복합물과 같은 다른 재료 (예: EML 공정) 도 사용할 수 있습니다. 세인트 270D (ST 270D) 는 또한 다크필드 이미징 (darkfield imaging) 을 활용하여 기계가 생산하는 구조나 패턴이 정확하고 정확한지 확인합니다. 다크필드 이미징 (Darkfield Imaging) 은 저항 마스크와 기판 재료 사이의 대비를 최대화하며, 마스크를 패턴화할 때 더 많은 정확도를 허용합니다. 또한 백그라운드 커터 (background clutter) 가 최소 (minimum) 로 유지되므로 전체 기판 영역을 한 번에 볼 필요가 없으므로 공구의 정확도를 높일 수 있습니다. 에셋에는 photolithography 프로세스를 단순화하는 많은 통합 기능이 포함되어 있습니다. 즉, 사용자 인터페이스를 쉽게 작동시킬 수 있고, 초점 조정 기능이 완전히 자동화되어 있으며, 교정 모델이 내장되어 있습니다. 또한 통합 진단/프로세스 제어 기능, 고급 보고 기능, 분석 기능도 제공합니다. 결론적으로, SEMITOOL ST 270D는 매우 다양한 마이크로 일렉트로닉 구성 요소에 대한 복잡하고 정밀한 3 차원 기하학을 생산하는 데 사용될 수있는 강력한 포토 esist 장비입니다. EML, darkfield imaging 및 기타 기능을 활용하여 생성된 형상이 정확하고 정확한지 확인합니다. 이 시스템은 또한 사용자 친화적이며 다양한 통합 기능을 제공하여 사진 (photolithography) 프로세스를 단순화합니다.