판매용 중고 SEMITOOL SSTC-632280 #293616250

SEMITOOL SSTC-632280 포토리스 스틱 (Photoresist) 장비는 광감각 물질 (photoresist) 의 얇은 층을 원하는 광도에 노출 된 주어진 물질의 기판에 배치하는 데 사용되는 자동 습식 공정이다. photoresist 시스템은 용매 전달 장치, 스프레이 노즐, 반응 챔버 및 photoresist 증착 챔버를 포함한 여러 구성 요소로 구성됩니다. 용매 배달기 (solvent delivery machine) 는 스프레이 노즐에 원하는 용매를 공급하는 데 사용됩니다. 이것 은 "포토레지스트 '가 정확 한 부피 의 기판 에 뿌려지게 하는 것 이다. "스프레이 '" 노즐' 은 "포토레지스트 '를 미세 한 입자 로 원자 화 시키고 그 다음 에는 균일 한 방법 으로 기질 에 적용 시켜서 임계 단계 를 가중 시킨다. 반응 챔버 (reaction chamber) 는 가스 (gas) 또는 증기 챔버 (vapor chamber) 라고도하며 광전자가 퇴적되는 환경을 제어하는 데 사용됩니다. 이 약실 은 대기 중 에 존재 하는 압력, 온도, 산소 의 양 을 조절 하는데, 그 양 은 모두 광저항 층 의 균일성 및 정확도 에 영향 을 미친다. 그 "에너지 '는" 에너지' 를 조절 한다. 포토 esist 증착 챔버 (photoresist deposition chamber) 는 기판을 수용하고 포토 esist를 분사하는 밀폐 된 챔버입니다. "챔버 '의 특별 한 설계 는 증착 과정 중 에 일정한 온도, 압력 및 산소 대기 를 허용 한다. 이 과정 의 마지막 중요 한 단계 는 "기판 '을 광원 에 노출 시키는 것 이다. 이것 은 광저항 층 (photoresist layer) 이 원하는 광도 (light intensity) 에 대해 원하는 감도 를 갖도록 한다. 이 과정이 완료되면, photoresist 레이어는 필요한 경우, 치료되고, 기질에서 제거된다. SSTC-632280 포토레시스트 (photoresist) 도구는 반도체 업계에서 일반적으로 사용되는 안정적이고 자동화된 습윤 공정으로, 그것 은 "포토리스토그래피 '에서 박막 태양 전지 에 이르기 까지 다양 한 응용 에 이상적 인 해결책 이다. 정확하고 일관된 결과로, 자산은 photoresist 증착을위한 주요 솔루션 중 하나입니다.