판매용 중고 SEMITOOL SST-C-321-280 #9238397

SEMITOOL SST-C-321-280은 중간에서 대용량 생산 응용 분야에 사용하도록 설계된 반자동 광저항 장비입니다. 직경이 최대 12 "인 기질의 단면 또는 양면 처리에 적합합니다. 이 시스템은 노출 헤드, 스프레이 개발자 스테이지, 스핀 린스 스테이지, 컨베이어 및 스핀 코터 등 여러 가지 구성 요소로 구성됩니다. 노출 헤드는 스테퍼 모터 (stepper motor), 제어 전자 장치 (control electronics) 및 2 단계 셔터 장치 (shutter unit) 로 구성되어 양성 및 음성 포토 esist 모두에 대한 정확한 노출 시간을 보장합니다. 헤드에는 수동으로 조절 가능한 초점과 강도 다이얼 (dial) 이 장착되어 있으며 최대 12 인치 기판을 처리 할 수 있습니다. 쉽게 접근 할 수 있고 자동화 된 기판 처리를 위해 175cm 길이의 로봇 암 (robotic arm) 으로 기계에 부착됩니다. 스프레이 개발자 단계는 isopropyl alcohol (IPA) 을 사용하여 기판 표면에서 노출되지 않은 photoresist를 제거하는 멀티 포트 노즐 도구입니다. 사용된 개발자 양을 정확하게 제어하기 위한 PLC (PLC) 가 장착되어 있으며 폐기물 재순환 자산이 내장되어 있습니다. 개발자 패널의 안전하고 간편한 유지 관리를 위해 대피 포트 (Evacuation Port) 가 장착되어 있습니다. 스핀 린스 단계는 스핀 코터 공정 전에 기질을 린스하는 데 사용됩니다. 전용의 제어판 (Control Panel) 과 PLC (PLC) 를 사용하여 기판에 사용되는 저항의 유형과 관련된 정확한 린스 시간과 온도를 보장합니다. 무대에는 용매 복구 용지함 (solvent recovery tray) 이 장착되어 있으며 IPA를 사용하여 린스주기를 수행합니다. 컨베이어 (conveyor) 는 모델의 다양한 단계 간 기질의 이동을 용이하게하며, 포토 esist 사이클 전반에 걸쳐 일관된 온도를 보장하기 위해 전용 세라믹 난방 보드를 특징으로합니다. 스핀-코터 (spin-coater) 는 매우 얇은 필름으로 포토 esist를 기판 표면에 적용하는 데 사용됩니다. 디지털 프로그래밍 가능 타이머가 특징이며 다양한 레지스트 (resist) 유형에 대해 여러 가지 사전 프로그래밍 된 응용 프로그램 사이클을 제공합니다. 스테이지는 200 ~ 2500 RPM 사이의 속도로 직경이 최대 12 "인 기판을 회전 할 수 있습니다. 결론적으로, SEMITOOL SSTC321280은 중대량 생산 응용 프로그램에서 포토 esist 처리에 이상적인 장비입니다. 노출 헤드, 스프레이 개발자, 스핀 린스 (Spin Rinse) 및 코터 스테이지, 컨베이어 등 다양한 특수 구성 요소가 있습니다. 이 시스템은 접근과 유지보수가 용이할 뿐만 아니라, 직경이 최대 12 "인 다양한 기판 크기를 수용 할 수 있습니다.