판매용 중고 SEMITOOL SST-C-221-280-PB #9408953

ID: 9408953
Spray solvent system Stainless steel cabinet Process: Metal lift off Resist strip Polymer removal or wafer cleaning (2) Heated tanks (NMP) (2) Ambient heated tanks (IPA) Front touch screen SEMITOOL 302 Controller 280 Bowl (Accommodates 8" substrate-low profile) Encapsulated ferro fluidic drive seal KALREZ Bowl seal N2 Purged dedicated chemical DI Water spray manifolds Dedicated TFE N2 dry manifold Graphic color controller Process variable control of RPM Heated chemical temperature Vertical Auto Door (VAD) Power: 208V, 5 wires, 3 Phase.
SEMITOOL SST-C-221-280-PB는 고급 리소그래피 (lithography) 프로세스에서 처리 할 때 뛰어난 성능과 뛰어난 프로세스 신뢰성을 제공하도록 설계된 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 이 시스템은 완전하게 자동화된, 완전한 기능을 갖춘 포토레시스트 (photoresist) 처리 솔루션으로, 여러 기판 구성으로 단일 단계 및 다중 단계 프로세스를 실행할 수 있습니다. 이 장치는 완전 자동화 된 기판 로딩 머신 (substrate loading machine) 을 사용하며, 다른 프로세스에 대해 최대 5 개의 레시피 세트를 저장할 수 있습니다. 이 툴은 탁월한 성능, 반복성, 프로세스 신뢰성을 보장하는 최고의 자재, 컴포넌트, 엔지니어링 방식을 갖추고 있습니다. 이 자산은 특허받은 가스 전달 (gas delivery) 기술을 사용하여 감광제를 기판 표면에 균일하게 배포하고 수동 확산의 필요성을 제거합니다. 독특한 이중 펌프 모델 (dual-pump model) 은 기판에 대한 포토 esist의 균일 한 분포를 보장하면서 일관되고 반복 가능한 프로세스를 제공하기 위해 사용됩니다. 장비는 최대 직경 6 인치, 최대 두께 200 um 크기의 웨이퍼 크기를 처리 할 수 있습니다. 시스템은 완전히 통합 된 쿼츠 크리스탈 모니터 (quartz crystal monitor) 장치를 사용하여 웨이퍼 레벨 포토레지스트 두께를 측정하고 포토레지스트 레이어의 균일성을 모니터링합니다. 이 기계는 또한 실시간 프로세스 내 검사 도구 (in-process inspection tool) 를 갖추고 있는데, 이 도구를 사용하여 사용자는 프로세스가 실행되는 동안 photoresist 레이어를 모니터링할 수 있습니다. 또한 SST-C-221-280-PB에는 고밀도, 저온 베이크 기능이 장착되어 있어 반복 가능한 프로세스 조건을 보장하며, 일관된 저항 패턴 및 베이킹을 보장합니다. 에셋에는 난방 단계 2 개와 냉각 단계 2 개가 장착되어 있어 프로세스 제어가 정확합니다. 전반적으로 SEMITOOL SST-C-221-280-PB는 뛰어난 성능, 프로세스 안정성 및 반복 성을 제공하도록 설계된 고급 포토 esist 모델입니다. 이 장비는 고급 석판화 프로세스 (advanced lithography process) 용으로 설계되었으며, 특정 응용 프로그램에 맞게 사용자 정의할 수 있는 다양한 프로세스 매개변수를 허용합니다. 이 시스템은 최고 품질의 재료, 컴포넌트, 엔지니어링 관행을 활용하여 뛰어난 성능, 반복성, 프로세스 신뢰성을 보장합니다. 이 장치는 직경이 최대 6 인치, 두께가 200 um 인 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 이 기계는 또한 내장형 쿼츠 크리스탈 모니터 (quartz crystal monitor) 와 공정 검사 시스템 (in-process inspection system) 을 갖추고 있어 탁월한 성능과 프로세스 신뢰성을 보장합니다.
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