판매용 중고 SEMITOOL SRD-2405-3-1-E-ML #9139663

SEMITOOL SRD-2405-3-1-E-ML
ID: 9139663
웨이퍼 크기: 6"
Spin rinse dryer, 6".
SEMITOOL SRD-2405-3-1-E-ML Photoresist Equipment는 반도체 제작을 위해 설계된 정확하고 전용 석판 플랫폼입니다. 이 시스템은 고급 심층 UV (DUV) 및 레이저 처리 기술을 사용하여 반도체 표면에 포토레지스트 물질의 광석학 적 에칭을 가능하게합니다. SRD-2405-3-1-E-ML은 반도체 제조를 최적화하기 위해 설계된 여러 가지 특수 구성 요소로 구성됩니다. 디지털 이미징 (digital imaging) 기술을 활용한 직경이 큰 초미세 프로젝션 렌즈 (ultra-fine projection lens) 장치를 사용하여 여러 레지스트 레이어의 정확한 등록 및 정렬을 보장하는 레이저 (laser) 소스와 대상 재료에서 패턴화 해상도가 높은 레이저 (laser) 소스를 제공합니다. 이 기계에는 또한 photolithography 프로세스의 웨이퍼를 자동으로 배치하는 RABR (robotic-assisted wafer handling tool) 이 포함되어 있습니다. 또한 SEMITOOL SRD-2405-3-1-E-ML은 깔끔한 처리 환경을 유지하고 신속한 전환을 촉진하는 통합 펌핑 자산을 갖추고 있습니다. 이 프로세스는 싱글 코트, 풀 코트, 멀티 레이어 포토 esist 코팅, 에칭 및 리프트 오프 프로세스 등 다양한 유형의 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 마지막으로, 이 모델에는 포괄적인 프로세스 제어 및 데이터 획득 기능을 제공하는 고급 소프트웨어 (Advanced Software) 패키지가 장착되어 있습니다. 이를 통해 생산성이 향상되고 반복 가능한 프로세스 결과를 얻을 수 있습니다. 전반적으로 SRD-2405-3-1-E-ML Photoresist 장비는 최신 반도체 제조의 정밀 요구 사항을 충족하도록 설계된 강력하고 다용도 플랫폼입니다.
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