판매용 중고 SEMITOOL SAT #293671300

SEMITOOL SAT는 높은 프리 시온 리소그래피 처리를 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 복잡한 마이크로 일렉트로닉 장치 제작을 위해 반도체 웨이퍼 (wafer) 에 작은 회로나 복잡한 패턴을 만드는 데 사용됩니다. 이 시스템은 웨이퍼 (photoresist layer) 를 웨이퍼에 노출시키고 후속 개발을 위해 가변 파장 (variable-wavelength) 여기 소스를 갖춘 가벼운 스테퍼로 구성됩니다. SAT 장치에는 자동 샘플 로딩 및 정렬 안내 메커니즘과 함께 고해상도 (high resolution) 의 투영 렌즈 (projection lenses) 가 장착되어 있어 처리량 프로세스 흐름이 높아 극한의 정확도 패턴을 보장합니다. 이 기계는 양성 및 음성 광사 증착, susceptor pre-bake, 빛 노출 및 노출 광도, 패턴 검사, 초점 조정, 개발, 포스트 베이크, 검사 및 패턴 높이 측정과 같은 다양한 photoresist 프로세스에 영향을 줄 수 있습니다. 세미톨 토 (SEMITOOL SAT) 도구는 단순한 원에서 매우 복잡한 기하학적 패턴에 이르기까지 다양한 복잡한 모양에 걸친 광사 레이어를 노출 할 수 있습니다. 자산의 자동 패턴 배치 엔진 (automatic pattern placement engine) 이 이러한 패턴을 웨이퍼에 정확하게 배치할 수 있기 때문입니다. 그런 다음이 모델은 여러 조명 각도를 사용하여 포토 esist 레이어에서 최적화 된 커버리지를 보장합니다. 고해상도 이미징 (High Resolution Imaging) 은 패턴 배치 정확도를 더욱 지원하는 장비의 광학에 의해 제공됩니다. 또한, SAT는 종합적인 측정 기술 제품군을 웨이퍼 (wafer) 레벨에 통합하고, 이미징 기능을 사용자 정의할 수 있도록 해 주므로, 특정 구성 요구사항에 맞는 패턴 크기 (pattern size), 정렬 매개변수 (alignment parameters) 및 기타 변수들을 자유롭게 선택할 수 있습니다. 또한, SEMITOOL SAT는 또한 정확한 온도 조절을 허용하여 불완전한 결과의 가능성을 줄이는 데 도움이됩니다. 이것은 또한 구성 요소 손상 가능성을 줄이는 데 도움이됩니다. 수능 (SAT) 은 패턴화 결과의 신뢰성과 정확성을 향상시키도록 설계된 다양한 다른 기능을 제공합니다. 여기에는 초점과 정렬을 보장하는 고해상도 카메라, 가변 조명 노출을위한 조정 가능한 레이저 소스, 노출 균일성을 극대화하는 고해상도 광학 시스템 (Optical System) 이 포함됩니다. 또한, 직관적이고, 사용자 친화적 인 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 로 인해이 장치는 사용하기 매우 쉬워서 프로세스 레시피를 빠르게 설정할 수 있습니다. 전반적으로 SEMITOOL SAT 머신은 향상된 반도체 장치 제조를 위해 고성능, 정확하고 안정적인 웨이퍼 패턴화 솔루션을 제공합니다. 광범위한 프로세스 기능, 조정 가능한 조명 설정, 고해상도 이미징 (High Resolution Imaging) 을 통해 모든 운영 라인에 뛰어난 자산을 제공할 수 있습니다.