판매용 중고 SEMITOOL SAT 3060 #9314452

SEMITOOL SAT 3060 포토레지스트 (photoresist) 장비는 포토레시스트 개발의 엄격한 요구 사항을 충족하도록 설계된 다용도 및 신뢰할 수있는 하드웨어입니다. 이 시스템은 표준 수직 트랙 플랫폼 (vertical track platform) 을 기반으로 하며, 최대 300kg의 구성 요소를 지원할 수 있습니다. 이 장치에는 SEMITOOL E550 통합 스핀 린스 드라이 (SRD) 플랫폼이 포함되어 있으며, 이를 통해 사용자는 습식 벤치 톱 프로세스를 포토 esist 개발에 통합 할 수 있습니다. E550 SRD 플랫폼에는 최신 재순환 여과 및 원심 분리 기술 (centrifugal separation technologies) 이 포함되어 있으며, 습식 공정 도구에 탁월한 성능과 향상된 수명을 제공합니다. SAT 3060 포토 esist 머신에는 SRD 플랫폼 외에도 다양한 생산 등급 기능이 포함되어 있습니다. 이 도구는 최대 200mm (wafer) 의 웨이퍼를 처리하도록 설계되었으며, 고급 전자 장치 제조에 사용되는 단단하고 두꺼운 포토레지스트 마스크 개발을 지원할 수 있습니다. 웨이퍼는 내장 프로그래밍 가능한 멀티 존 스테퍼 모터 (multigzone stepper motor) 로 회전하여 최적의 화학 분포를위한 동적 스핀 속도 및 가속을 제공합니다. 이 자산에는 4 스테이션 핫 플레이트도 포함되어 있으며 65 ° C ~ 190 ° C의 온도에 대해 프로그래밍 할 수 있습니다. 4 존 핫 플레이트 (4 Zone Hotplate) 를 사용하면 다양한 기판 굴착 장치 및 응용 프로그램에 대해 다양한 레시피를 개발 할 수 있으므로 복잡한 처리 요구 사항에 적합합니다. 이 모델에는 포토 esist (photoresist) 를 실온으로 되돌리는 빠르고 효과적인 방법을 제공하는 포함 된 싱크 (sink) 도 포함되어 있으며, 잠재적 오염을 제거합니다. SEMITOOL SAT 3060 포토레시스트 (photoresist) 장비는 사용자 친화적인 제어판 덕분에 유지 관리 및 문제 해결이 용이합니다. 사용자에게 친숙한 인터페이스를 통해 프로세스 매개변수를 쉽게 탐색하고 모니터링할 수 있습니다. 또한 내장 모듈식 안전 스위치 (Modular Safety Switch) 시스템으로 설계되어 가동 중지 시간을 줄이고 생산 효율성을 높입니다. 전체적으로 SAT 3060 포토 esist 유닛은 안정적이고 효율적인 포토 esist 개발 기계입니다. 커스터마이징 가능한 핫플레이트, 스핀 속도 선택기 (Spin Speed Selector) 및 다양한 온도 설정을 통해 하드 마스크 (Hard/Thick Photoresist Mask) 를 모두 처리할 수 있습니다. 또한, 이 툴의 모듈식 안전 시스템 (modular safety systems) 은 프로세스 매개변수를 모니터링하여 품질과 정확성을 보장하고 빠르고 효과적인 문제 해결 시스템을 제공합니다.