판매용 중고 SEMITOOL SAT 20605 #293830238

SEMITOOL SAT 20605 (SEMITOOL SAT 20605) 는 반도체 웨이퍼 및 기판 처리를 위해 정확하고, 안정적이며, 비용 효율적인 솔루션을 제공하도록 설계된 아트 포토리스 처리 장비의 상태입니다. 이 시스템은 스핀 코팅 및 포스트 베이크, 이미지 전송, 노출, 습식 및 건식 에치, 전기 도금, 스트리핑 등 다양한 기술을 통해 웨이퍼를 처리하도록 설계되었습니다. 전체 장치는 4 개의 개별 주 모듈로 구성되어 있어 효율성 및 사용 편의성을 극대화합니다. 기계의 핵심은 레지스트 프로세서 모듈 (Resist Processor Module) 으로, 포토 esist를 균일 한 패턴으로 웨이퍼에 전달하고, 빛을 노출시키고, 처리 후 저항을 개발하는 데 사용됩니다. 프로세서 (Processor) 모듈에는 웨이퍼를 처리하는 데 필요한 4개의 스테이션과 기타 여러 도구와 구성 요소가 있습니다. 첫 번째 스테이션은 스핀 코터 (Spin Coater) 와 관련 난방 요소로 구성되어 있으며, 포토 esist를 웨이퍼에 균등하게 퍼뜨리고 저항을 백베이크 (back-bake) 하여 치료합니다. 두 번째 스테이션에는 마스크 알리그너 (Mask Aligner) 가 포함되어 있으며, 이는 웨이퍼를 조명 패턴에 노출시키고 스핀 코팅 된 웨이퍼에 마스크를 정확하게 배치하는 데 사용됩니다. 세 번째 스테이션에는 광 강도를 모니터링하고 조정하는 이미지 탐지기 (Image Detector) 와 노출 후 베이크를위한 기판 핫 플레이트 (Substrate Hotplate) 가 있습니다. 네 번째 스테이션에는 플라스틱 수지 조작기 (Plastic Resin Manipulator) 와 웨이퍼 (Wafer) 가공을위한 여러 가지 다른 구성 요소가 있습니다. 사진 저항 처리 및 이미징 후, 웨이퍼는 전도성 필름의 습식 화학 및 전기 도금을 위해 스트립 모듈 (Strip Module) 으로 이동합니다. 모듈의 외관은 레지스트 프로세서 (Resist Processor) 와 유사하지만, 내부는 전기 도금 전에 필요에 따라 실리콘 웨이퍼를 미리 청소하고 에치하기 위해 화학 제어를 포함합니다. 이 도구에는 현재 밀도 및 고갈과 같은 사용자 조정 가능한 도금 매개변수도 포함됩니다. 스트립 모듈 (Strip Module) 에는 가열 된 린스 스테이션, 스프레이 온 저항 스트리퍼, 염화되지 않은 유기 용매 및 수산화암모늄 처리와 같은 여러 가지 추가 습식 가공 도구가 포함되어 있습니다. 이러한 모든 도구는 전체 클리닝, 에칭, 전기 도금 기능을 제공하도록 설계되었습니다. 자산의 세 번째 모듈은 진공 모듈 (Vacuum Module) 입니다. 진공 모듈 (Vacuum Module) 은 유리 및 폴리 이미드와 같은 더 섬세한 웨이퍼 기판을 처리 할 수있는 기능을 제공합니다. 이 모듈은 진공 치료 (vacuum cure), 결합 리간드 (binding ligand), 소프트 베이크 (soft bake), 노출 (exposure) 등 여러 가지 기술을 사용하여 모델에서 가장 발전된 모듈입니다. 모듈에는 진공 챔버, 여러 컴포넌트 및 도구, 기판 검사를 위한 뷰 창 (Viewing Window) 이 있습니다. 마지막으로, 모듈에는 장비 제어 및 모니터링에 필요한 소프트웨어와 하드웨어가 포함된 제어 모듈 (Control Module) 이 포함됩니다. 제어 모듈 (Control Module) 에는 프로세스 단계, 시스템 온도, 제한 등을 모니터링하는 데 사용되는 세 개의 개별 제어 시스템이 있습니다. 또한 데이터 로깅, 유지 보수 경고, 레시피 생성 및 제어, 경보 알림 등 다양한 기능이 포함되어 있습니다. 요약하면, SAT 20605 Photoresist Unit은 비용 효율적인 방법으로 웨이퍼를 처리하기위한 신뢰할 수있는 솔루션을 제공하도록 설계되었습니다. 이 모듈은 각각 고유한 구성 요소와 기능을 갖춘 4 개의 상호 연결 모듈로 구성되며, 종합적인 제어 모듈 (Control Module) 과 연계되어 사용하기 쉽고 통합된 프로세스 제어 시스템을 제공합니다.