판매용 중고 SEMITOOL / RHETECH ST-870S #293799330

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Spin Rinse Dryer (SRD).
SEMITOOL/RHETECH ST-870S는 반도체 제조 응용 분야를 위해 설계된 고도의 포토 esist 처리 장비입니다. 이 정교한 장비는 반도체 업계의 집적 회로, MEMS 장치, 기타 마이크로 제작 구조물 생산에 필수적입니다. RHETECH ST-870S는 정확하고 안정적인 포토 esist 코팅, 개발 및 베이킹 프로세스를 제공하도록 설계되어 반도체 제조에서 최적의 성능 및 생산성을 보장합니다. 세미툴 세인트-870S (SEMITOOL ST-870S) 의 주요 특징은 다양한 포토레지스트 (photoresist) 재료 및 공정 요구사항을 처리하는 다용성과 유연성입니다. 고급 자동화 기능과 프로그래밍 가능한 컨트롤을 갖춘 이 시스템은 다양한 포토리스 (photoresist) 유형, 점도 (viscosity) 및 응용 프로그램 방법을 수용할 수 있습니다. 이러한 유연성을 통해 반도체 제조업체는이 장치를 다양한 프로세스 사양에 적응시키고 특정 응용 프로그램에 대한 생산 매개변수를 최적화 할 수 있습니다. ST-870S의 주요 기능 중 하나는 포토리스 스틱 코팅 (photoresist coating) 으로, 반도체 웨이퍼 또는 기판에 광에 민감한 물질의 균일 한 증착을 포함합니다. 이 기계는 정밀 분배 기술 (precision dispensing technology) 을 사용하여 포토리스 (photoresist) 재료를 제어 방식으로 적용하여 웨이퍼 전체 표면에 일관된 필름 두께와 커버리지를 보장합니다. 이 균일성은 후속 석판화 단계에서 고해상도 패턴화와 정확한 장치 기능을 달성하는 데 중요합니다. 포토 esist 코팅 공정 후, SEMITOOL/RHETECH ST-870S는 일련의 화학 처리를 통해 노출 된 웨이퍼의 개발을 촉진합니다. 이 도구는 고성능 스프레이 노즐 (spray nozzle) 과 린스 사이클 (rinse cycle) 을 통합하여 노출되지 않은 포토레지스트 재료를 선택적으로 제거하고 웨이퍼 표면의 원하는 패턴 뒤에 둡니다. 이 개발 과정은 반도체 소자의 회로 배열 (circuit layout) 과 기능을 정확하게 정의하는 데 중요합니다. RHETECH ST-870S는 코팅 및 개발 외에도 포토 esist 물질을 치료하고 안정화하기 위해 개발 후 베이킹 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 이 단계 는 "와퍼 '를 조절 하는 온도 와 시간 조건 을 적용 하여 광저항 층 의 접착, 화학적 저항, 기계적 특성 을 향상 시킨다. 에셋은 베이킹 사이클을위한 정확한 온도 조절 및 프로그래밍 가능한 레시피를 제공하여, 다른 포토 esist 제형에 대해 일관되고 반복 가능한 결과를 보장합니다. 또한, SEMITOOL ST-870S에는 고급 모니터링 및 진단 기능이 장착되어 있어 프로세스 무결성과 장비 신뢰성을 보장합니다. 이 모델에는 실시간 센서, 피드백 메커니즘, 포토 esist 처리 중 모든 편차 또는 이상에 대해 감지하고 응답하는 경보 시스템 (alarm system) 이 포함됩니다. 이러한 사전 예방적 접근 방식은 반도체 제작에서 결함을 최소화하고, 운영 처리량을 최적화하고, 고품질 표준을 유지하는 데 도움이 됩니다. 전반적으로, ST-870S는 반도체 업계의 포토레스 처리 시스템에 대한 새로운 표준을 설정하여 고급 기능, 탁월한 성능, 프로세스 제어를 제공합니다. 이 장비는 다용도, 정밀도, 자동화 기능을 통해 반도체 제조업체가 생산 공정에서 더 높은 수율, 더 빠른 출시 시간, 향상된 장치 성능을 달성할 수 있게 해 줍니다. SEMITOOL/RHETECH ST-870S (SEMITOOL/RHETECH ST-870S) 는 마이크로일렉트로닉스 (microelectronics) 의 역동적 인 분야에서 기술과 혁신의 선두에 머물려고하는 반도체 제조 시설에 필수적인 도구입니다.
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