판매용 중고 SEMITOOL / RHETECH ST-470S #293758552

SEMITOOL/RHETECH ST-470S는 반도체 산업의 까다로운 요구를 충족시키기 위해 설계 된 고급적이고 다재다능한 포토 esist 처리 장비입니다. 이 "시스템 '은 집적" 회로' 와 "마이크로일렉트로닉 '장치 를 제조 하는 데 중요 한 광전자 물질 의 응용 과 개발 에 있어서 정확성 과 일관성 을 제공 하도록 설계 되었다. RHETECH ST-470S (RETEch ST-470S) 는 고급 기술과 혁신적인 기능의 조합을 사용하여 포토 esist 재료의 매우 정확하고 재현 가능한 처리를 보장합니다. 이 장치 의 핵심 구성 요소 중 하나 는 정밀 "웨이퍼 '처리 기계 인데, 이것 은 광물질" 코우팅' 및 개발 과정 중 에 "웨이퍼 '를 정확 하게 배치 하고 조작 할 수 있게 해 준다. 이렇게 하면 포토레지스트가 웨이퍼 (wafer) 표면에 균일하게 적용되어 고품질 (high-quality) 및 신뢰성 있는 패턴화가 이루어집니다. SEMITOOL ST-470S는 정확한 웨이퍼 처리 기능 외에도 정교한 포토 esist 디스펜싱 및 스핀 코팅 도구를 갖추고 있습니다. 이 자산은 웨이퍼 (wafer) 표면에 정확한 양의 포토레지스트 (photoresist) 재료를 전달하고, 원하는 두께와 커버리지를 달성하기 위해 제어 속도로 스핀 코팅하도록 설계되었습니다. 포토레시스트 (photoresist) 레이어가 일관되고 결함이 없도록 합니다. 이는 고해상도 패턴화 (high-resolution patterning) 와 정확한 장치 제작에 중요합니다. 또한, ST-470S에는 고급 온도 조절 및 난방 시스템이 장착되어 포토레스 (photoresist) 물질의 치료 및 굽기를 용이하게합니다. 이것 은 "포토레지스트 '층 이 적절 히 치료 되고 굳어져서" 웨이퍼' 표면 에 대한 뛰어난 접착 및 그 후 처리 단계 에 사용 되는 "에찬트 '및 기타 화학 물질 에 대한 내성 을 제공 한다. SEMITOOL/RHETECH ST-470S의 또 다른 주요 특징은 고급 패턴 개발 모델 (Advanced Pattern Development Model) 로, 패턴 후 원치 않는 포토 esist 물질을 정확하게 제거 할 수 있습니다. 이 장비 는 화학적 용액 과 기계적 인 공정 의 조합 을 이용 하여 "웨이퍼 '표면 에 있는 기초 한" 패턴' 구조 를 보존 하면서 광물질 을 부드럽고 효율적 으로 제거 한다. 이는 최종 패턴이 선명하고, 잘 정의되어 있으며, 인공물 또는 결함에서 벗어날 수 있도록 합니다. 또한, RHETECH ST-470S에는 고급 모니터링 및 제어 시스템이 장착되어 photoresist 처리 단계의 최적의 성능과 신뢰성을 보장합니다. 이러한 시스템을 사용하면 스핀 속도 (spin speed), 분배 볼륨 (dispense volume), 온도 (temperation), 노출 시간 (exposure time) 과 같은 주요 프로세스 매개변수를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 전체적으로 SEMITOOL ST-470S는 첨단 반도체 장치 제작에 탁월한 정밀도, 신뢰성, 성능을 제공하는 최첨단 포토레스 처리 시스템입니다. 첨단 기능, 혁신적인 기술, 그리고 견고한 설계를 통해 반도체 제조업체들은 높은 수율과 뛰어난 장치 성능을 제공하고자 합니다 (영문).