판매용 중고 SEMITOOL / RHETECH Spin Rinse Dryer (SRD) #293761635

RHETECH Spin Rinse Dryer (SRD) 는 반도체 제조 공정에 사용되는 포토 esist 장비의 중요한 구성 요소입니다. SRD 장비는 사진 촬영 단계 후 웨이퍼에 대한 철저하고 효율적인 청소 및 건조 프로세스를 제공하도록 설계되었습니다. 이 "시스템 '은" 웨이퍼' 표면 에서 불순물 과 광저항 잔류 를 제거 함 으로써 반도체 장치 의 신뢰성 과 질 을 보장 하는 데 필수적 이다. SRD 장치의 주요 기능은 웨이퍼 (wafer) 에 대한 린스 (rinse), 스핀 (spin) 및 드라이 사이클 (dry cycle) 을 수행하여 포토 리토 그래피 프로세스에 사용되는 나머지 포토 esist 또는 화학 물질을 제거하는 것입니다. 스핀 린스 드라이어 (spin rinse dryer) 는 원심 힘, 제거 된 가스 흐름, 제어 된 난방 요소의 조합을 통해 이것을 달성하여 웨이퍼에서 높은 수준의 깨끗함과 표면 품질을 달성합니다. SRD 기계의 작동은 스핀 척 (spin chuck) 에 웨이퍼를 적재하는 것으로 시작됩니다. "스핀 '척 은" 웨이퍼' 를 안전 하게 고정 시키고 청소 과정 중 에 고속 으로 "웨이퍼 '의 회전 을 촉진 시킨다. 일단 "웨이퍼 '가 위치 에 있으면, 일련 의" 린즈 노즐' 이 "웨이퍼 '표면 위 에 이온' 화 된 물 이나 다른 적합 한 청소 용액 을 분배 시킨다. 스핀 척 (spin chuck) 이 회전함에 따라, 생성 된 원심력은 린스 용액이 웨이퍼를 가로 질러 균일하게 퍼지면서, 잔류 광물질 또는 오염 물질을 효과적으로 린징시킨다. 제어 된 회전 속도 와 "스프레이 '압력 은" 웨이퍼' 에 섬세 한 반도체 구조 를 손상 시키지 않고 철저 히 청소 한다. 린싱 단계가 완료된 후, 스핀 린스 건조기는 스핀 사이클을 시작합니다. "웨이퍼 '의 빠른 회전 은 과도 한 물 과" 클리닝' 용액 을 지표면 에서 떨어뜨려 "웨이퍼 '를 거의 건조 하게 만든다. 이 단계 는 "워터마크 ', 점박이 또는 건조 불량 때문 에 생기는 다른 결함 들 을 막는 데 중요 하다. 공정의 마지막 단계에서, SRD 도구는 가열된 가스 흐름 (heated gas flow) 과 지속적인 회전 (continuate rotation) 의 조합을 사용하여 웨이퍼 표면에서 남은 수분을 증발시킵니다. "와퍼 '가 과도 한 온도 에 의하여" 반도체' 구조 에 손상 을 입히지 않고 "와퍼 '를 효율적 으로 말린다. SEMITOOL SRD (Spin Rinse Dryer) 에는 고급 제어 및 모니터링 시스템이 장착되어 있어 프로세스 매개 변수를 정확하게 유지하고 여러 웨이퍼에 걸쳐 일관된 클리닝 및 건조 결과를 보장합니다. 스핀 속도 (spin speed), 린스 흐름 속도 (rinse flow rate), 온도 (temperature) 및 건조 시간 (drying time) 과 같은 주요 매개변수를 실시간으로 모니터링하면 클리닝 프로세스를 세밀하게 조정하여 각기 다른 반도체 제조 프로세스의 특정 요구 사항을 충족할 수 있습니다. 전반적으로, SRD 자산은 사진 촬영 후 웨이퍼에 매우 효과적이고 효율적인 청소 및 건조 솔루션을 제공하여 반도체 장치의 품질, 안정성, 성능을 보장하는 데 중요한 역할을합니다. 첨단 설계 (Advanced Design) 와 정밀 제어 메커니즘은 반도체 제조 산업에서 필수 불가결한 도구입니다.