판매용 중고 SEMITOOL Raider #9018339
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ID: 9018339
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 2004
Wafer backside etcher, 6"
Configuration:
Process: backside and bevel etch/clean
Substrate: 6" Si with flats
Voltage: 380 V, 3 phase, 50/60 Hz, 5 wire
CE comp: yes
S2 comp: yes
Automation:
Type: 2 open cassette
Robot: STI single linear
End effector: edge grip
Pre-aligner: no
Cabinet:
Style: 2 chamber with WIP version 2
Material: PVC-C
Exhaust: bottom
Facilities: bottom
Fire supp: eng req (no external comp)
ULPA filters: standard (to cover both wafer handling area and chambers)
Process module:
CPC1/CPC2 backside layer etch
Chamber: 8" capsule
Rotor: 6" capsule I
DRVHD: capsule I
Auto: Raider L/R
MFC on N2 and IPA (top/bottom)
IPA vapor dry
Delivery systems:
Tank 1
Size: 20 L
Style: bottom draw
H/C: coils
Circ: recirc/reclaim
Filter: 5" 0.1 um
Level sensor: 3 floats
Pump: Levitronix BP-3 48 V
Supply: bulk fill
Delivery: CPC 1 & 2
Chem: dHF
Chemical trunk line delivered to bottom of CPC1/CPC2
SMTL transducer for all liquids
Drains: IPA, IW, HF
Options: (2) Affinity heater/chillers
Engineering required:
Cabinet
Elec pods
Automation
Process component integration
Electrical
Software
Plumbing layout
Gas flow monitoring and data logging
Robot interface
Manuals
Chiller/heater, 50 Hz, European
Chiller M75, 50 Hz, PD-2
2004 vintage.
SEMITOOL Raider photoresist 장비는 반도체 장치의 기능을 패턴화하는 데 사용되는 자동화된 고 처리량 photolithography 도구입니다. 이 시스템에는 정밀 로봇 (precision robotics) 이 장착되어 있어 한 공정 스테이션에서 다른 공정 스테이션으로 반도체 웨이퍼를 정확하게 골라서 배치합니다. Raider는 정확한 웨이퍼 포지셔닝을위한 레이저 간섭계, 정확한 온도 제어 및 환경 청결을위한 로드 잠금 장치, 정확한 등각 처리를위한 0.5 미크론 코터/개발자를 특징으로합니다. SEMITOOL Raider's photoresist 코팅 스테이션 (photoresist coating station) 은 사진 해설을 준비하기 위해 얇은 저항층을 웨이퍼에 코팅하도록 설계되었습니다. 이 기계는 0.1 미크론 정도의 정확성과 해상도로 분당 최대 6 웨이퍼의 저항 코팅 속도를 제공합니다. 코팅 된 웨이퍼는 포토 마스크 (photomask) 스테이션으로 옮겨지며, 여기서 적외선-적색 또는 근UV 레이저는 포토 마스크에서 원하는 패턴을 밝힙니다. 이를 통해 동일한 포토 마스크 (photomask) 를 사용하여 매우 작은 패턴이나 완전한 회로 설계를 조명할 수 있습니다. Raider's scanner station을 사용하면 각 웨이퍼에 대해 특정 스캐닝 패턴을 프로그래밍할 수 있습니다. 이렇게 하면 개별 피쳐나 완전한 회로 설계가 웨이퍼에 정확하게 패턴화됩니다. 그런 다음 SEMITOOL Raider의 포토 esist 개발 스테이션을 사용하여 저항 패턴을 웨이퍼로 옮깁니다. 이 스테이션에는 일관된 프로세스를 보장하기 위해 고급 온도 및 습도 제어가 장착되어 있습니다. Raider는 반복 가능한 결과를 유지하면서 photolithography 프로세스 생산성을 개선하도록 설계되었습니다. 프로세스 제어 및 반복 능력이 철저하기 때문에, 사용자는 신뢰성, 일관성, 비용 효율적인 결과를 기대할 수 있습니다. 이 도구는 또한 공정 화학 물질과 호환성이 높으며, 다양한 화학 물질 및 재료와 쉽게 통합됩니다. 이러한 모든 기능을 통해 SEMITOOL Raider 는 반도체 디바이스를 처리하기 위해 신뢰할 수 있는 사진 (photolithography) 자산을 찾는 사용자에게 이상적인 선택이 됩니다.
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