판매용 중고 SEMITOOL Raider #293600285

ID: 293600285
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2008
Systems, 12" (8) Chambers Substrate: Si, 12" Chiller DHF Mix tank CO2 Bottle S2 Computer 502SE Controller Remote PPS MARATHON Standard Automation: Type: (2) FOUP WIP (PGV compatible) COAXIAL HT Robot STI Robot controller End effect controller: Edge grip Wet transfer edge grip FOUP ID: ASYST, P/N: 9750-2000-000 HERMOS RF Tag reader Vacuum source Wafer protrusion sensor Process module: CPC 1, 10, 12 Process: SRD / Prewet PTFE Spray chamber P/N: 271T0020-03 Rotor: Cantilever, N2 Wafer purge Bulk fill supply with filter, 5" IW Drain Spray bar nozzel, P/N: 341 T0011-05 CPC 2 Process: Ni plating Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III Ring, P/N: 213T1055-501 Anode, P/N: 110T0198-01, 111T0000-10 Plating PS, P/N: T16852-118 Wafer present sensor Mercury contact Wafer extraction (mechanical) Flow meter on chemical line Shield / Weir, P/N: 111T1204-511 CPC 3, 4, 9 Process: Solder plating (eutectic) Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III Ring, P/N: 213T1055-501 Plating PS, P/N: T16852-118 Wafer present sensor Mercury contact CPC 5, 6, 7, 8 Process: Solder plating (high lead) Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III Ring, P/N: 213T1055-501 Plating PS, P/N: T16852-118 Wafer present sensor Mercury contact Wafer extraction Flow meter on chemical line Shield / Weir, P/N: 111T1204-511 CPC 11 Process: Cu Plating Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III Ring, P/N: 213T1055-501 Anode, P/N: 111T1197-01 Plating PS, P/N: T16852-118 Wafer present sensor Mercury contact Wafer extraction Flow meter on chemical line Shield / Weir, P/N: 111T1204-511 Capacity: 48 L Style: Unsealed NPP Heat exchange coils Temperature: 50-55°C Filter, 10" Sensor: (5) Floats LEVITRONIX BPS 3 Pump WK AP50 Pump Supply: ARU / CDU / Bulk fill / Manual fill tube Sample Port CPC 2 Ni Plating solution Carbon polishing filter Conditioning electrodes pH Monitor Sight tube Power supply Tank 2: High lead solder Capacity: 120 L Style: Unsealed NPP Heat exchange coils Temperature: 25-35°C Filter, 10" Sensor: (5) Floats LEVITRONIX BPS 3 Pump WK AP50 Pump Supply: Bulk fill / CDU / Manual fill tube Sample Port CPC 5, 6, 7, 8 Chemical: High lead plating Solution Sight tube Tank 3: Eutectic solder Capacity: 120 L Style: Unsealed NPP Heat exchange coils Temperature: 25-35°C Filter, 10" Sensor: (5) Floats LEVITRONIX BPS 3 Pump WK AP50 Pump Supply: Bulk fill / CDU / Manual fill tube Sample port CPC 3, 4, 9 Chemical: Eutectic plating solution Sight tube Tank 4: Cu Capacity: 48 L Style: Unsealed NPP Heat exchange coils Temperature: 25°C Filter, 10" Sensor: (5) Floats LEVITRONIX BPS 3 Pump WK AP50 Pump Supply: ARU / CDU / Bulk fill / Manual fill tube Sample port CPC 11 Cu Plating solution Sight tube Drains: IW Eutectic Hi lead Ni Cu Process: Cu Ni Eutectic High lead plating Options: (3) Heater chillers AARU Dl Booster pump cabinet and Interface Power supply: 480 V, 4 Wire, 3 Phase 2008 vintage.
SEMITOOL Raider는 반도체 장비 제조업체 SEMITOOL이 2001 년에 출시 한 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 스프레이 온 코팅 (spray-on coating) 을 사용하여 후속 패턴 처리를 위해 반도체 웨이퍼에 포토 esist 층을 배치합니다. Raider 기능은로드 락 트랜스포터, 스프레이 암 (spray arm) 및 입자 제어 장치를 포함한 여러 컴퓨터 제어 구성 요소를 갖추고 있습니다. SEMITOOL Raider는 시간당 최대 50 개의 웨이퍼를 처리하고 전체 웨이퍼 표면에 균일 한 저항 프로파일을 생성합니다. 그것 은 "카세트 '에서" 웨이퍼' 를 언로드 하여 "스프레이 암 '으로 운반 하여 저항층 을 침착 시켜 외부" 컨베이어' 로 운반 한다. 스프레이 암은 얇은 (100-200nm) SU-8 저항층을 적용 할 수 있습니다. 입자 제어 장치 (particle control unit) 는 입자가 포토 esist를 오염시키지 않도록 보장하고 저항의 균일 한 코팅을 보장한다. 스프레이 챔버 (spray chamber) 의 산소 농도, 습도, 온도 및 압력을 모니터링하고 환경 내 입자의 농도를 모니터링합니다. 또한 레이더 (Raider) 에는 전체 웨이퍼 표면에 지속적으로 초점을 유지할 수있는 자동 초점 장치가 있습니다. 세미 툴 레이더 (SEMITOOL Raider) 는 정전기 구축 및 배기 가스와 같은 외부 요소로부터 보호하는 수많은 안전 기능을 가지고 있습니다. 각 시스템은 최대 정밀도를 위해 개별적으로 보정 될 수 있으며, 스프레이 암 (spray arm) 은 최대 제어 및 정확도를 위해 완전히 동력화됩니다. 레이더 (Raider) 는 전자제품 및 부품을 시간에 따라 업그레이드 할 수있는 모듈 식 기계입니다. 그것 은 직경 이 1 내지 12 "인치 '에 이르는" 웨이퍼' 를 처리 할 수 있는 방법 으로 설계 되었다. SEMITOOL Raider는 반도체 산업에서 포토 esist 응용 프로그램을위한 신뢰할 수있는 선택 도구입니다. 유지보수 (maintenance) 가 적으며, 무한한 감독을 요구하지 않고 일상적으로 대규모 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 얇고 균일한 저항층 (resist layer) 을 생성하여 환경이 깨끗하고 입자가 없도록 합니다. 레이더 (Raider) 는 사용자 안전을 염두에 두고 제작되었으며, 다양한 안전 기능을 통해 운영자가 항상 안전하게 보호됩니다.
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